[實(shí)用新型]含塵干煙氣凈化處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201822169208.2
• 申請(qǐng)日: 2018-12-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209287009U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-08-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 莫偉軍;劉行;張春生
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京國(guó)電環(huán)保科技有限公司
• 主分類號(hào): B01D53/32
• 分類號(hào): B01D53/32;B01D47/06
• 代理公司: 北京尚德技研知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11378
• 代理人: 段澤賢;嚴(yán)勇剛

一種含塵干煙氣凈化處理裝置，其包括通過(guò)管道順序連接的預(yù)處理腔、等離子處理腔和濕式電除塵腔，所述預(yù)處理腔與所述等離子處理腔同軸設(shè)置，所述預(yù)處理腔側(cè)壁中部設(shè)置有第一進(jìn)氣管，所述第一進(jìn)氣管出口處設(shè)置有超聲波霧化噴頭，所述預(yù)處理腔底部設(shè)置有旋流分離器，所述旋流分離器的溢出口與進(jìn)水口之間設(shè)置有溢流板，所述溢流板將所述預(yù)處理腔底部分隔為溢流區(qū)和進(jìn)水區(qū)，所述溢流區(qū)通過(guò)管路與所述超聲波霧化噴頭連接，所述等離子處理腔設(shè)置有多組放電桿和放電板，所述濕式電除塵腔內(nèi)豎直設(shè)置的陽(yáng)極管束包括由槽鋼焊接而成的上部支架和下部支架。本實(shí)用新型所提供的含塵干煙氣凈化處理裝置，通過(guò)增加預(yù)處理和等離子處理工序，大大提升了含塵工業(yè)廢氣，特別是干燥的含塵工業(yè)廢氣的處理效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及煙氣處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種對(duì)干燥的含塵工業(yè)廢氣進(jìn)行處理的裝置。

背景技術(shù)

在工業(yè)生產(chǎn)中，例如電廠生產(chǎn)中，會(huì)產(chǎn)生大量含塵的包含硫酸根、重金屬等成分的干煙氣，通常對(duì)于這些干煙氣的處理技術(shù)包括布袋除塵器、濕式電除塵等。等離子體技術(shù)是一種環(huán)境污染處理領(lǐng)域中的一項(xiàng)具有極強(qiáng)潛在優(yōu)勢(shì)的高新技術(shù)，其處理污染物的原理為：在外加電場(chǎng)的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹?jiǎn)單小分子安全物質(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無(wú)毒無(wú)害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在10ev，適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。因此，等離子除塵技術(shù)越來(lái)越得到重視。

目前等離子技術(shù)多用于生活廢氣處理，例如中國(guó)專利CN208194059U所提供的等離子煙氣凈化器，中國(guó)專利CN207941352U所提供的等離子和水幕除塵凈化裝置等，這些現(xiàn)有技術(shù)方案，還未能將等離子除塵技術(shù)用于成分更復(fù)雜的含塵工業(yè)廢氣。且工業(yè)化程度較低。廢氣處理效率也較低。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種含塵干煙氣凈化處理裝置，以減少或避免前面所提到的問(wèn)題。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提出了一種含塵干煙氣凈化處理裝置，其包括通過(guò)管道順序連接的預(yù)處理腔、等離子處理腔和濕式電除塵腔，所述預(yù)處理腔與所述等離子處理腔同軸設(shè)置，所述預(yù)處理腔側(cè)壁中部設(shè)置有第一進(jìn)氣管，所述第一進(jìn)氣管出口處設(shè)置有超聲波霧化噴頭，所述預(yù)處理腔底部設(shè)置有旋流分離器，所述旋流分離器的溢出口與進(jìn)水口之間設(shè)置有溢流板，所述溢流板將所述預(yù)處理腔底部分隔為溢流區(qū)和進(jìn)水區(qū)，所述溢流區(qū)通過(guò)管路與所述超聲波霧化噴頭連接，所述等離子處理腔設(shè)置有多組放電桿和放電板，所述濕式電除塵腔內(nèi)豎直設(shè)置的陽(yáng)極管束包括由槽鋼焊接而成的上部支架和下部支架，所述上部支架和所述下部支架之間安裝有多個(gè)陽(yáng)極管，所述下部支架截面為U型，所述上部支架設(shè)置有由截面為W型的槽體和蓋板形成的封閉貫通的n形型腔，所述槽體底部設(shè)置有多個(gè)向所述陽(yáng)極管傾斜的噴孔。

優(yōu)選地，所述第一進(jìn)氣管的結(jié)構(gòu)采用文丘里管結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，所述預(yù)處理腔內(nèi)在所述超聲波霧化噴頭上方還設(shè)置有多個(gè)噴淋頭，所述噴淋頭通過(guò)管路與所述溢流區(qū)連接。

優(yōu)選地，所述第一進(jìn)氣管出口處設(shè)置有至少兩個(gè)超聲波霧化噴頭，其中至少一個(gè)超聲波霧化噴頭指向第一進(jìn)氣管出口，另外至少一個(gè)超聲波霧化噴頭指向所述預(yù)處理腔軸線。

優(yōu)選地，所述超聲波霧化噴頭的霧化顆粒小于4微米。

優(yōu)選地，所述放電桿包括焊接連接的圓桿和放電針，所述放電針包括用于與所述圓桿套接的環(huán)形底座以及在所述環(huán)形底座外側(cè)周向均布的三根針身，所述針身端部設(shè)置有直徑為2-3mm的針尖。

優(yōu)選地，所述噴孔的傾斜角度α設(shè)置為30-40°。

優(yōu)選地，所述噴孔的孔徑設(shè)置為3-5mm。

優(yōu)選地，在所述陽(yáng)極管同一側(cè)的相鄰的兩個(gè)所述噴孔的最小距離設(shè)置為5-8mm。