[實用新型]一種改善等離子體啟輝及穩(wěn)定性的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822167355.6 | 申請日: | 2018-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN209982804U | 公開(公告)日: | 2020-01-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李雪冬;劉小波;胡冬冬;車東晨;李娜;徐康寧;陳璐;許開東 | 申請(專利權)人: | 江蘇魯汶儀器有限公司 |
| 主分類號: | H05H1/46 | 分類號: | H05H1/46;H01L21/67 |
| 代理公司: | 32274 南京申云知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人: | 邱興天 |
| 地址: | 221300 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電感耦合線圈 內圈 反應腔室 等離子體啟輝 激勵射頻電源 本實用新型 接地 工藝重復性 中等離子體 工藝窗口 工藝過程 晶圓表面 靜電卡盤 可調電容 偏壓射頻 電壓差 高電壓 介質窗 沉積 刻蝕 串聯(lián) 電源 | ||
1.一種改善等離子體啟輝及穩(wěn)定性的裝置,其特征在于:包括激勵射頻電源、電感耦合線圈、反應腔室、介質窗、靜電卡盤和偏壓射頻電源,所述電感耦合線圈設置在介質窗上方,所述介質窗設置在反應腔室上方,所述靜電卡盤設置在反應腔室并與偏壓射頻電源相連后接地,所述電感耦合線圈的一端口與激勵射頻電源連接,另一端口串聯(lián)有可調電容,所述電感耦合線圈外圈端口到反應腔室接地端的距離小于電感耦合線圈內圈端口到反應腔室接地端的距離,且電感耦合線圈外圈端口的電壓高于電感耦合線圈內圈端口的電壓。
2.根據(jù)權利要求1所述的改善等離子體啟輝及穩(wěn)定性的裝置,其特征在于:所述電感耦合線圈的內端與激勵射頻電源連接,外端與可調電容連接;或者所述感耦合線圈的外端與激勵射頻電源連接,內端與可調電容連接。
3.根據(jù)權利要求1所述的改善等離子體啟輝及穩(wěn)定性的裝置,其特征在于:所述電感耦合線圈為平面結構或者立體結構。
4.根據(jù)權利要求3所述的改善等離子體啟輝及穩(wěn)定性的裝置,其特征在于:所述平面結構為平面螺旋線形或者圓形弧線,所述平面螺旋線為阿基米德螺旋線、漸開線或者渦狀線。
5.根據(jù)權利要求3所述的改善等離子體啟輝及穩(wěn)定性的裝置,其特征在于:所述立體結構為立體螺旋形狀,且沿上升方向立體螺旋線的直徑相同或直徑漸小或直徑漸大。
6.根據(jù)權利要求1或2所述的改善等離子體啟輝及穩(wěn)定性的裝置,其特征在于:所述電感耦合線圈為單根線圈,或者所述電感耦合線圈為兩個或兩個以上線圈并聯(lián)而成。
7.根據(jù)權利要求6所述的改善等離子體啟輝及穩(wěn)定性的裝置,其特征在于:兩個或兩個以上線圈并聯(lián)后,再與可調電容串聯(lián);或者兩個或兩個以上線圈并聯(lián),且每個并聯(lián)支路里均串聯(lián)有一個可調電容。
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