[實用新型]反應槽的旁通式液位檢測結構有效
| 申請號: | 201822159163.0 | 申請日: | 2018-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN209181866U | 公開(公告)日: | 2019-07-30 |
| 發明(設計)人: | 左國軍;成旭 | 申請(專利權)人: | 常州捷佳創精密機械有限公司 |
| 主分類號: | G01F23/02 | 分類號: | G01F23/02 |
| 代理公司: | 深圳市康弘知識產權代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彥;胡朝陽 |
| 地址: | 213000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應槽 液位檢測管 液位檢測 旁通式 本實用新型 旁通管 連通 液位傳感器 底部連通 空氣連通 豎直設置 維護方便 準確度 排氣管 上端 硅片 內液 下端 檢測 安全 | ||
本實用新型公開了一種反應槽的旁通式液位檢測結構,包括反應槽;旁通管,其一端與反應槽的底部連通;液位檢測管,豎直設置,其下端與旁通管的另一端連通;液位傳感器,安裝在液位檢測管的頂部;排氣管,其一端與液位檢測管的上端連通,另一端與空氣連通。本實用新型反應槽的旁通式液位檢測結構,反應槽內液位高度的檢測準確度較高,不會損壞硅片,維護方便、安全。
技術領域
本實用新型涉及反應槽技術領域,更具體地說,是涉及一種反應槽的旁通式液位檢測結構。
背景技術
在清洗設備中,接觸和浸沒硅片的液位高度對片子的絨面和清洗效果有很大的影響,特別是在進行濕法刻蝕工序上,液位太高會導致過刻,液位太低硅片可能接觸反應不充分,絨面不均勻,減重達不到要求,在硅片電池制成的過程中,不同的工藝對片子的減重也不同,需要對液位的高度和配方進行調整。
目前,反應槽內的液位高度是通過浮球來檢測的,這樣的檢測結構具有以下缺點:
1.浮球在反應槽內,處理中的硅片可能會碰到,造成硅片的損害,及堵片;
2.浮球檢測只是開關量檢測,無法準確定義液位的高度,無法達到同樣的工藝,同樣的硅片清洗反應時,每次調節的液位高度一致,
3.調節控制液位的高度時,更多是靠經驗,只能反饋泵的頻率。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題,是提供一種反應槽的旁通式液位檢測結構,具有較高的液位檢測準確度,不會損壞硅片,維護方便、安全。
為了實現上述的目的,本實用新型的技術方案是:
一種反應槽的旁通式液位檢測結構,包括反應槽;旁通管,其一端與反應槽的底部連通;液位檢測管,豎直設置,其下端與旁通管的另一端連通;液位傳感器,安裝在液位檢測管的頂部;排氣管,其一端與液位檢測管的上端連通,另一端與空氣連通。
進一步地,所述液位檢測管的下側還設置有排液閥。
進一步地,所述反應槽的兩側還設有溢液槽。
進一步地,所述反應槽的下側還設有調節閥門、泵和儲液槽。
進一步地,所述調節閥門的一端通過進液管與反應槽的底部連通,調節閥門的另一端與泵的一端連通,泵的另一端通過管道與儲液槽連通。
進一步地,所述排液閥的一端與液位檢測管連通,另一端與溢流管連通。
進一步地,所述溢液槽通過溢流管與儲液槽連通。
本實用新型的有益效果:本實用新型反應槽的旁通式液位檢測結構,反應槽內液位高度的檢測準確度較高,不會損壞硅片,維護方便、安全。
附圖說明
下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細說明。
圖1是本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型解決的技術問題、采用的技術方案、取得的技術效果易于理解,下面結合具體的附圖,對本實用新型的具體實施方式做進一步說明。
需要說明的是,為了便于描述,附圖中僅示出了與本實用新型有關的部分而非全部結構。
如圖1所示,在本實用新型的一個具體實施例中,提供了一種反應槽的旁通式液位檢測結構,包括反應槽1、旁通管3、液位檢測管6、液位傳感器4和排氣管5。
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