[實用新型]一種用于鍍膜后的等離子裝置

有效

• 申請號: 201822151085.X
• 申請日: 2018-12-20
• 公開（公告）號: CN209508402U
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 梁高偉;嚴從剛;白慶石
• 申請（專利權）人: 江西合力泰科技有限公司
• 主分類號: C23C14/58
• 分類號: C23C14/58
• 代理公司: 寧波市鄞州甬致專利代理事務所(普通合伙) 33228
• 代理人: 黃宗熊

1.一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，它包括：清洗機(1)以及等離子裝置(2)，所述清洗機(1)上設有清洗箱(3)以及料板(4)，所述料板(4)自清洗箱(3)的一端穿過并延伸至該清洗箱(3)的另一端外構成上料口(4.1)以及出料口(4.2)，所述等離子裝置位于所述料板(4)的上料口(4.1)處，所述料板(4)下方安裝有滾輪(5)，所述清洗箱(3)位于所述料板(4)的上方安裝有用以對通過其下方的產品進行清洗的兩組滾刷(6)以及風刀(7)。

2.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述清洗機(1)以及所述等離子裝置(2)通過機架(8)連接，所述等離子裝置(2)兩側設有與所述機架(8)一體成型設置的壓塊(8.1)。

3.根據權利要求2所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述機架(8)還具有與其一體成型用以支撐所述清洗機(1)及等離子裝置(2)的支撐腳(8.2)。

4.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述等離子裝置(2)包括罩殼(2.1)以及噴管(2.2)以及等離子發生器(2.3)，所述罩殼(2.1)靠近所述上料口(4.1)的端面向內凹陷構成可供樣料通過的通槽(2.4)，所述噴管(2.2)自所述罩殼(2.1)的上端面至通槽(2.4)的槽頂穿過并與所述上料口(4.1)接觸。

5.根據權利要求4所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述罩殼(2.1)上開設有橫縱交錯設置的導向槽(2.6)，所述噴管(2.2)可沿所述導向槽(2.6)活動。

6.根據權利要求5所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述噴管(2.2)位于所述上料口的一端中插設有噴覆頭(2.5)，所述噴覆頭(2.5)的一端延伸至所述罩殼(2.1)內并與所述等離子發生器(2.3)連接。

7.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述滾刷(6)包括第一滾刷(6.1)和第二滾刷(6.2)，所述第一滾刷(6.1)的上方安裝有洗劑盒(9)，所述洗劑盒(9)上連接有出液管(9.1)，所述出液管(9.1)背離所述洗劑盒(9)的一端連接有噴頭(9.2)。

8.根據權利要求7所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述清洗箱(3)位于所述第二滾刷(6.2)處的兩側壁上插裝有通水管(10)，所述通水管(10)的一端延伸至所述清洗箱(3)外并與一供水機連接，所述通水管(10)的位于所述清洗箱(3)內的一端沿所述清洗箱(3)頂部分布且位于所述第二滾刷(6.2)上端。

9.根據權利要求7所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述清洗箱(3)位于所述第一滾刷(6.1)與第二滾刷(6.2)間的側壁上開設有上下交錯的風口(3.1)，所述風口(3.1)均與風機連接。

10.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜后的等離子裝置，其特征在于，所述清洗箱(3)位于所述出料口(4.2)的一端與一除塵箱(11)連接，所述除塵箱(11)內安裝有靜電去除頭。