[實(shí)用新型]一種光波分復(fù)用器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201822149724.9
• 申請日: 2018-12-20
• 公開（公告）號: CN209117906U
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉勇;張麗丹;陳一博
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇海灣半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號: G02B6/12
• 分類號: G02B6/12;G02B6/13
• 代理公司: 杭州融方專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33266
• 代理人: 沈相權(quán)

本實(shí)用新型涉及光波分復(fù)用設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光波分復(fù)用器。結(jié)構(gòu)緊湊，損耗低、偏正不敏感且隔離度大。包括光波導(dǎo)芯片和光纖陣列FA；光波導(dǎo)芯片包括襯底層，在襯底層上表面上設(shè)有下包層，在下包層上表面上設(shè)有芯層，將芯層設(shè)計(jì)成所需的波導(dǎo)光路；在下包層的上表面以及波導(dǎo)光路的上表面上設(shè)有上包層；從而得到晶圓，將晶元裁切后得到光波導(dǎo)芯片；光纖陣列FA包括夾具，在夾具上設(shè)有一根輸入光纖、一根末端輸出光纖和與轉(zhuǎn)角輸出端個(gè)數(shù)相等的轉(zhuǎn)角輸出光纖；在每根轉(zhuǎn)角輸出光纖的輸入端端面上分別設(shè)有具有設(shè)定波長選擇特性的干涉濾波薄膜。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光波分復(fù)用設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光波分復(fù)用器。

背景技術(shù)

隨著數(shù)據(jù)業(yè)務(wù)的飛速發(fā)展，網(wǎng)絡(luò)融合的速度在加快，WDM技術(shù)的研究、開發(fā)與應(yīng)用十分活躍，而且市場競爭的壓力使得運(yùn)營商對網(wǎng)絡(luò)的本錢(包括建設(shè)本錢和運(yùn)維本錢)更加敏感，運(yùn)營公司紛紛著手用WDM技術(shù)改造現(xiàn)有的光傳輸網(wǎng)絡(luò)。從原理上講，波分復(fù)用技術(shù)是在一根光纖中同時(shí)傳輸多波長光信號的一項(xiàng)技術(shù)。其基本原理是在發(fā)送端將不同波長的光信號組合起來(復(fù)用)，并耦合到光纜線路上的同一根光纖中進(jìn)行傳輸，在接收端又將組合的波長光信號分開(解復(fù)用)，并作進(jìn)一步處理，恢復(fù)出原信號后送入不同的終端。WDM具備良好的技術(shù)優(yōu)勢，但是，要實(shí)現(xiàn)WDM傳輸，需要許多與其作用相適應(yīng)的高新技術(shù)和器件，包括光源、一種光波分復(fù)用器、光放大器、光線路技術(shù)以及監(jiān)控技術(shù)等。

在WDM傳輸系統(tǒng)中，波分復(fù)用/解復(fù)用器(以下統(tǒng)稱波分復(fù)用器)是波分復(fù)用光傳輸系統(tǒng)的關(guān)鍵器件，其性能的優(yōu)劣對系統(tǒng)傳輸質(zhì)量有決定性的影響。波分復(fù)用器的重要性能指標(biāo)包括中心波長、插入損耗、信道隔離度和通帶寬度等。目前常用的波分復(fù)用器有干涉膜濾波器(TFF)型、光纖光柵型、陣列波導(dǎo)光柵(AWG)型和熔融拉錐耦合型等。其中，干涉膜濾波技術(shù)及陣列波導(dǎo)光柵技術(shù)近年來發(fā)展較為成熟，商用的波分復(fù)用器主要也是采用干涉膜濾波技術(shù)及陣列波導(dǎo)技術(shù)來設(shè)計(jì)。基于TFF的波分復(fù)用器：技術(shù)成熟，具有溫度穩(wěn)定性好、插入損耗較低、偏振不敏感、信道隔離度高、信道間隔可以不規(guī)則設(shè)置、系統(tǒng)升級容易等優(yōu)點(diǎn)，適合信道數(shù)量不多的波分復(fù)用系統(tǒng)。基于AWG的波分復(fù)用器：采用平面光波導(dǎo)技術(shù)，具有波長間隔小、通道數(shù)大、傳輸損耗均勻、容易與光纖耦合、便于批量生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

目前薄膜濾波片型波分復(fù)用器的制作采用全膠封裝工藝，其缺點(diǎn)是隨著通道數(shù)的增加，插入損耗增大，器件成本與通道數(shù)成正比，裝配時(shí)間長等；而陣列波導(dǎo)型波分復(fù)用器采用半導(dǎo)體工藝，其缺點(diǎn)是對溫度敏感，插入損耗偏大，封裝尺寸小但隨著信道間隔降低增加很快。

在本專利中用到的兩個(gè)名詞CVD和PVD的含義如下：

CVD：化學(xué)氣相沉積ChemicalVaporDeposition)，用含有目標(biāo)元素的氣體，接收能量后通過化學(xué)反應(yīng)，制備固體薄膜。

PVD：物理氣相沉積PhysicalVaporDeposition)，用物理方式把氣化的物質(zhì)薄膜沉積到目標(biāo)材料上。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型是為了解決現(xiàn)有薄膜濾波片型波分復(fù)用器隨著通道數(shù)的增加，插入損耗增大，器件成本與通道數(shù)成正比，裝配時(shí)間長，可靠性差的不足，目的一是讓提供一種結(jié)構(gòu)緊湊，產(chǎn)品穩(wěn)定性好，損耗低、偏正不敏感且隔離度大；目的二是易于對輸入的光信號強(qiáng)弱進(jìn)行檢測，可靠性高，使用方便的一種光波分復(fù)用器。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：