[實用新型]一種新型保持環(huán)及裝有該保持環(huán)的化學(xué)機械拋光機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822143367.5 | 申請日： | 2018-12-19 |
| 公開（公告）號： | CN209425232U | 公開（公告）日： | 2019-09-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 吳庚平 | 申請（專利權(quán)）人： | 吳庚平 |
| 主分類號： | B24B37/32 | 分類號： | B24B37/32 |
| 代理公司： | 上海尚象專利代理有限公司 31335 | 代理人： | 段昌志 |
| 地址： | 437400 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 環(huán)狀體 化學(xué)機械拋光機 本實用新型 條狀凹槽 塑料層 不銹鋼 外包裹塑料層 注塑 機械領(lǐng)域 傾斜設(shè)置 使用壽命 螺栓孔 上表面 下表面 注塑機 生產(chǎn)成本 | ||
1.一種新型保持環(huán)，包括一保持環(huán)，其特征在于，所述保持環(huán)的上表面設(shè)有至少三個呈傾斜設(shè)置的第一條狀凹槽，至少三個所述第一條狀凹槽等間距排布在所述保持環(huán)的上表面上，所述保持環(huán)的下表面設(shè)有至少三個螺栓孔，至少三個螺栓孔等間距排布在所述保持環(huán)的下表面上；
所述保持環(huán)包括一不銹鋼制成的環(huán)狀體，所述環(huán)狀體的外側(cè)包裹有一塑料層；
所述環(huán)狀體的上表面上設(shè)有至少兩個第二條狀凹槽，至少兩個所述第二條狀凹槽呈環(huán)狀排布在所述環(huán)狀體的上表面上；
靠近所述環(huán)狀體的上表面的所述環(huán)狀體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有第三條狀凹槽，所述第三條狀凹槽呈環(huán)狀排布在所述環(huán)狀體的內(nèi)側(cè)壁上；
靠近所述環(huán)狀體的上表面的所述環(huán)狀體的外側(cè)壁上設(shè)有第四條狀凹槽，所述第四條狀凹槽呈環(huán)狀排布在所述環(huán)狀體的外側(cè)壁上。
2.如權(quán)利要求1所述的一種新型保持環(huán)，其特征在于，所述塑料層采用PEEK或PPS中的一種。
3.如權(quán)利要求1所述的一種新型保持環(huán)，其特征在于，所述第三條狀凹槽與所述環(huán)狀體的上表面之間的距離不大于所述環(huán)狀體的高度的二分之一；
所述第四條狀凹槽與所述環(huán)狀體的上表面之間的距離不大于所述環(huán)狀體的高度的二分之一。
4.如權(quán)利要求1所述的一種新型保持環(huán)，其特征在于，所述環(huán)狀體采用牌號為17-4PH的馬氏體不銹鋼制成。
5.如權(quán)利要求1所述的一種新型保持環(huán)，其特征在于，所述第一條狀凹槽的側(cè)壁與所述保持環(huán)的上表面的連接處倒圓角。
6.如權(quán)利要求1所述的一種新型保持環(huán)，其特征在于，所述保持環(huán)的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有第五條狀凹槽，所述第五條狀凹槽呈環(huán)狀排布在所述保持環(huán)的內(nèi)側(cè)壁上。
7.如權(quán)利要求1所述的一種新型保持環(huán)，其特征在于，所述保持環(huán)的外側(cè)壁上設(shè)有至少三條呈縱向排布的加強筋，至少三條所述加強筋等間距排布在所述保持環(huán)的外側(cè)壁上。
8.一種裝有新型保持環(huán)的化學(xué)機械拋光機，包括一化學(xué)機械拋光機，所述化學(xué)機械拋光機所述包括一研磨機臺，所述研磨機臺上安有一研磨墊，所述研磨墊的上方設(shè)有一研磨頭，其特征在于，所述研磨頭的下方設(shè)有一套設(shè)在晶圓外側(cè)的保持環(huán)，所述保持環(huán)的上表面設(shè)有至少三個呈傾斜設(shè)置的第一條狀凹槽，至少三個所述第一條狀凹槽等間距排布在所述保持環(huán)的上表面上，所述保持環(huán)的下表面設(shè)有至少三個螺栓孔，至少三個螺栓孔等間距排布在所述保持環(huán)的下表面上；
所述保持環(huán)包括一不銹鋼制成的環(huán)狀體，所述環(huán)狀體的外側(cè)包裹有一塑料層；
所述環(huán)狀體的上表面上設(shè)有至少兩個第二條狀凹槽，至少兩個所述第二條狀凹槽呈環(huán)狀排布在所述環(huán)狀體的上表面上；
靠近所述環(huán)狀體的上表面的所述環(huán)狀體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有第三條狀凹槽，所述第三條狀凹槽呈環(huán)狀排布在所述環(huán)狀體的內(nèi)側(cè)壁上；
靠近所述環(huán)狀體的上表面的所述環(huán)狀體的外側(cè)壁上設(shè)有第四條狀凹槽，所述第四條狀凹槽呈環(huán)狀排布在所述環(huán)狀體的外側(cè)壁上。
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