[實(shí)用新型]一種低反射率的低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201822139113.6
• 申請(qǐng)日: 2018-12-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209906645U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 董炳榮;李向陽(yáng);姜磊;謝鵬程;江超凡;宋惠平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江旗濱節(jié)能玻璃有限公司;深圳市新旗濱科技有限公司
• 主分類號(hào): C03C17/36
• 分類號(hào): C03C17/36
• 代理公司: 44287 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 胡海國(guó);曹樹(shù)鵬

1.一種低反射率的低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基層及設(shè)置于所述玻璃基層一側(cè)的鍍膜層，其特征在于，所述鍍膜層包括自所述玻璃基層的一側(cè)依次向外設(shè)置的第一介質(zhì)層、第一保護(hù)層、功能層、第二保護(hù)層及第二介質(zhì)層；所述第一介質(zhì)層與所述第二介質(zhì)層的厚度比為1.6～3.0：1；所述第一保護(hù)層與所述第二保護(hù)層的厚度比為1：1.5～2.5。

2.如權(quán)利要求1所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一介質(zhì)層的厚度為48nm～120nm，所述第二介質(zhì)層的厚度為23nm～50nm。

3.如權(quán)利要求2所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一介質(zhì)層與所述第二介質(zhì)層均為SiNx層，SiNx中x的范圍是0.5～1.33。

4.如權(quán)利要求1所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一保護(hù)層的厚度為1.5nm～5nm，所述第二保護(hù)層的厚度為2.3nm～10nm。

5.如權(quán)利要求4所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一保護(hù)層與所述第二保護(hù)層均為NiCr層。

6.如權(quán)利要求1所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述功能層為Ag層，所述Ag層的厚度為5nm～15nm。

7.如權(quán)利要求1至6任意一項(xiàng)所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一保護(hù)層、所述功能層及所述第二保護(hù)層構(gòu)成的金屬層厚度小于28nm。

8.如權(quán)利要求1至6任意一項(xiàng)所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述低反射率的低輻射鍍膜玻璃還包括第一結(jié)合層和/或第二結(jié)合層，所述第一結(jié)合層設(shè)于所述第一保護(hù)層與所述第一介質(zhì)層之間，所述第二結(jié)合層設(shè)于所述第二保護(hù)層與所述第二介質(zhì)層之間。

9.如權(quán)利要求8所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一結(jié)合層的厚度為4nm～8nm，和/或所述第二結(jié)合層的厚度為4nm～8nm。

10.如權(quán)利要求9所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一結(jié)合層為AZO層，和/或所述第二結(jié)合層為AZO層。

11.如權(quán)利要求1至6任意一項(xiàng)所述的低反射率的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述低反射率的低輻射鍍膜玻璃的玻面反射色L為24～28，a*為-2.5～1.3，b*為-7.0～-4.0，室外反射率為4.2％～5.5％。