[實用新型]一種高反射率輻射制冷膜

有效

• 申請號: 201822138704.1
• 申請日: 2018-12-19
• 公開（公告）號: CN210506188U
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 寧波瑞凌新能源科技有限公司
• 主分類號: C09J7/29
• 分類號: C09J7/29
• 代理公司: 杭州華進聯浙知識產權代理有限公司 33250
• 代理人: 李麗華

1.一種高反射率輻射制冷膜，其特征在于，包括依次設置的輻射制冷層、反射層以及有機封裝層，所述反射層包括依次設置的第一金屬氧化物層、金屬層、第二金屬氧化物層以及介質膜層，所述介質膜層包括至少一高折射率層和至少一低折射率層，所述高折射率層與所述低折射率層交替地層疊設置。

2.根據權利要求1所述的高反射率輻射制冷膜，其特征在于，所述第二金屬氧化物層的折射率高于所述低折射率層的折射率，且所述介質膜層的一所述低折射率層與所述第二金屬氧化物層接觸。

3.根據權利要求1所述的高反射率輻射制冷膜，其特征在于，所述輻射制冷層包括制冷層以及設置在所述制冷層至少一側的樹脂層，所述制冷層包括樹脂以及分散在所述樹脂中的輻射制冷顆粒。

4.根據權利要求3所述的高反射率輻射制冷膜，其特征在于，所述輻射制冷顆粒的粒徑為1～30μm。

5.根據權利要求1所述的高反射率輻射制冷膜，其特征在于，所述有機封裝層為膠粘劑或者結構膠或者壓敏膠。

6.根據權利要求1-5任一所述的高反射率輻射制冷膜，其特征在于，所述輻射制冷層的厚度為30～200μm，所述反射層的厚度為20～300nm，所述反射層中的所述第一金屬氧化物層和所述第二金屬氧化物層的厚度各占所述反射層厚度的20～30％，所述金屬層的厚度占所述反射層厚度的20～35％，所述介質膜層占所述反射層厚度的5～40％，所述有機封裝層的厚度為10～100μm。

7.根據權利要求1-5任一所述的高反射率輻射制冷膜，其特征在于，還包括設置在所述輻射制冷層一側的耐候疏水層，所述耐候疏水層與所述反射層分別位于所述輻射制冷層的兩側。

8.根據權利要求7所述的高反射率輻射制冷膜，其特征在于，所述耐候疏水層包括氟樹脂以及分散在所述氟樹脂中的納米SiO₂粒子。

9.根據權利要求8所述的高反射率輻射制冷膜，其特征在于，所述耐候疏水層的厚度為5～30μm，所述納米SiO₂粒子的粒徑為10～100nm。