[實用新型]一種智能一體化射流超低溫等離子體材料處理設備有效
| 申請號: | 201822117056.1 | 申請日: | 2018-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN209405335U | 公開(公告)日: | 2019-09-20 |
| 發明(設計)人: | 萬良淏;徐龍 | 申請(專利權)人: | 南京蘇曼等離子科技有限公司 |
| 主分類號: | A61L9/22 | 分類號: | A61L9/22;B08B7/00 |
| 代理公司: | 南京鐘山專利代理有限公司 32252 | 代理人: | 戴朝榮 |
| 地址: | 211178 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體發生系統 等離子體材料 超低溫 托盤 處理設備 運動系統 射流 電氣控制系統 待處理材料 智能一體化 發生系統 運動軌跡 等離子體射流 本實用新型 交換監控 控制氣源 控制運動 氣氛環境 人機交互 系統數據 顯示系統 氣源 噴射 一體化 | ||
本實用新型是一種智能一體化射流超低溫等離子體材料處理設備,包括等離子體發生系統、氣氛發生系統、運動系統、電氣控制系統、人機交互顯示系統和系統數據交換監控系統;其中,氣氛發生系統用于為等離子體發生系統提供氣源;等離子體發生系統用于朝向待處理材料噴射等離子體射流;待處理材料固定在托盤上,托盤設置在運動系統上,運動系統用于控制托盤的運動軌跡;電氣控制系統用于控制氣源氣體濃度、控制等離子體發生系統的工作狀態以及設置并控制運動系統的運動軌跡。該種一體化射流超低溫等離子體材料處理設備可為處理的工件提供合適而穩定的氣氛環境,提高工件的處理效果。
技術領域
本實用新型是涉及低溫等離子體控制技術領域,具體的說是一種智能一體化射流超低溫等離子體材料處理設備。
背景技術
等離子體是物質存在的第四種狀態。它由電離的導電氣體組成,其中包括六種典型的粒子,即電子、正離子、負離子、激發態的原子或分子、基態的原子或分子以及光子。
低溫等離子體空間富集的離子、電子、激發態原子、分子及自由基均為活性粒子,易于和材料表面發生反應。因而在滅菌、表面改性、薄膜沉積、刻蝕加工、器件清洗等領域得到廣泛應用。
目前工業上應用的射流等離子體表面處理技術,存在以下缺陷:
目前常用的氣源是使用壓縮空氣。在對如泡沫、海綿、木料等燃點低的材質進行處理時,會發生燒傷產品表面的現象;而在對烤漆面等一些特殊表面進行處理時,則達不到滿意的處理效果。
某些特殊材質需要氮氣或氧氣的特定氛圍進行表面處理時,采用專用氣瓶或者氣站作為氣源:氣瓶作為氣源時氣壓不穩定,需頻繁更換;而氣站做氣源則成本很高,產線無法靈活調整。
常見的針對小型工件進行表面射流等離子體表面處理設備,固定等離子體噴槍的移動平臺為獨立的系統,其軌跡的建立、編輯、調用,參數的讀取和記錄等都通過額外的控制器進行。
上述的移動平臺通常使用的為三軸平臺,即單工位操作平臺,生產效率較低。
發明內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種智能一體化射流超低溫等離子體材料處理設備。
為解決上述技術問題,本實用新型采用的技術方案為:
一種智能一體化射流超低溫等離子體材料處理設備,其特征是:包括等離子體發生系統、氣氛發生系統、運動系統、電氣控制系統、人機交互顯示系統和系統數據交換監控系統電氣控制系統;
所述的氣氛發生系統用于為等離子體發生系統提供氣源;
所述的等離子體發生系統用于朝向待處理材料噴射等離子體射流;
所述的待處理材料固定在托盤上,所述的托盤設置在運動系統上,所述的運動系統用于控制托盤的運動軌跡;
所述的電氣控制系統用于控制氣源氣體濃度、控制等離子體發生系統的工作狀態以及設置并控制運動系統的運動軌跡;
所述的人機交互顯示系統用于操作人員通過觸屏進行所有設備行為的控制、設置和編程,并在設備運行中,所有數據進行記錄和顯示,并定期進行保養提示,在故障時進行主動性播報;
所述的系統數據交換監控系統用于將系統內的所有運行數據進行監控與檢測,并與工廠整體監控系統相連接,實時上傳數據,并接受總控電腦的控制數據。
所述的氣氛發生系統包括氮氣/氧氣發生系統,所述的氮氣/氧氣發生系統包括吸附塔和保壓儲氣罐,所述的吸附塔用于過濾出空氣中的氮氣并輸出氮氣,所述的保壓儲氣罐用于穩定輸出氣路中的氣壓,所述的氮氣/氧氣發生系統的氣體輸入端與高壓空氣氣源連接,高壓氣路依次經過保壓儲氣罐和吸附塔后通過輸出高壓氣管與射流等離子體噴槍連接;
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