[實(shí)用新型]熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái)及熱絲化學(xué)氣相沉積裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201822113118.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209292472U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐永炳;王星永;王陶;黃磊;李星星 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳先進(jìn)技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | C23C16/27 | 分類號(hào): | C23C16/27;C23C16/458 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 逯恒 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熱絲化學(xué)氣相沉積 基片臺(tái) 承載面 沉積 本實(shí)用新型 梯度變化 設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域 承載基體 工業(yè)基礎(chǔ) 基體表面 梯度涂層 涂層沉積 上薄膜 熱絲 形核 薄膜 承載 便利 | ||
1.一種熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái),其特征在于,所述基片臺(tái)包括用于承載基體的承載面,所述承載面為斜面且所述承載面與熱絲之間的距離呈梯度變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái),其特征在于,相對(duì)于所述熱絲所在平面,所述承載面的傾斜角度為1-89°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái),其特征在于,所述基片臺(tái)為水冷基片臺(tái)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái),其特征在于,所述基片臺(tái)的縱向截面形狀為三角形或梯形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái),其特征在于,所述基片臺(tái)的高度可調(diào)節(jié);
和/或,所述承載面的傾斜角度可調(diào)節(jié)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái),其特征在于,所述承載面的邊緣處設(shè)置有凸起,所述凸起將所述承載面圍設(shè)成一凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái),其特征在于,所述凸起上設(shè)置有若干個(gè)用于指示基體放置高度的標(biāo)識(shí)部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái),其特征在于,所述標(biāo)識(shí)部為豁口,兩個(gè)相鄰的豁口高度差為1-10mm。
9.一種熱絲化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述的熱絲化學(xué)氣相沉積用基片臺(tái)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的熱絲化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,包括沉積室,所述沉積室內(nèi)部設(shè)置有所述基片臺(tái)和發(fā)熱裝置,所述發(fā)熱裝置設(shè)置在所述基片臺(tái)的上方;
所述發(fā)熱裝置包括熱絲和電極柱組件,所述熱絲連接在電極柱組件之間;
所述熱絲與所述承載面之間的距離為1-20mm。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





