[實用新型]CVD金剛石涂層刀具酸堿預處理自動滴液器有效
| 申請號: | 201822099038.5 | 申請日: | 2018-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN209338659U | 公開(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發明(設計)人: | 胡帥帥;張韜;李彥彤 | 申請(專利權)人: | 無錫職業技術學院 |
| 主分類號: | C23C16/02 | 分類號: | C23C16/02;C23C16/27 |
| 代理公司: | 無錫華源專利商標事務所(普通合伙) 32228 | 代理人: | 馮智文 |
| 地址: | 214121 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 自動滴液器 支架機構 酸堿 預處理 滾珠絲杠機構 滴管裝置 涂層刀具 下端面 滴管 本實用新型 安裝裝置 步進電機 滾動絲杠 滾珠絲桿 試管 滑塊 絲桿 刀具 保證 | ||
本實用新型涉及刀具酸堿技術領域,尤其為CVD金剛石涂層刀具酸堿預處理自動滴液器,CVD金剛石涂層刀具酸堿預處理自動滴液器,包括滾珠絲杠機構、支架機構、滴管安裝裝置和自動滴管裝置,所述滾珠絲杠機構下端面固定連接有支架機構,所述滴管安裝裝置下端面固定連接有自動滴管裝置,所述自動滴管裝置下端面固定連接有支架機構,所述滾珠絲杠機構左右端面與支架機構固定連接;本實用新型中,通過設置的步進電機、滑塊、第一滾動絲杠、第二滾動絲杠和絲桿,通過利用步進電機,通過PLC控制滾珠絲桿將多試管自動滴液器調整到需要的高度,這種設置節省大量時間,保證產品質量,大大提高了效率,具有很好的實用效益。
技術領域
本實用新型涉及刀具酸堿處理技術領域,具體為CVD金剛石涂層刀具酸堿預處理自動滴液器。
背景技術
大量的研究表明,CVD金剛石薄膜與硬質合金刀具基體之間的附著強度是影響其工作壽命及加工性能的決定性因素,由于硬質合金刀具中Co元素存在,對金剛石涂層的生長產生了阻礙作用;且硬質合金與金剛石薄膜熱膨脹系數差異較大,使得很難在未經處理的硬質合金襯底上沉積出高質量的金剛石薄膜,因此,在硬質合金刀具表面進行金剛石薄膜化學沉積之前,必須先對刀具基體進行預處理,達到基體脫鈷、脫碳及粗化的目的,隨著社會的發展,人們對刀具要求越來越嚴格,因此,對CVD金剛石涂層刀具酸堿預處理自動滴液器的需求日益增長。
根據工廠車間的調查,刀具預處理時需要給刀具進行酸堿的處理,需要將不同刀長的刀具分別放入與刀長相同高度的酸堿溶液中,低于或高于都會對產生溶液的浪費和刀具預處理不徹底,對接下來工作產生影響,而現在技術只能通過手動的方法對試管液面的高度進行控制,工作人員需要對液面高度進行反復觀察,確定液面高度,才可以進行刀具酸堿處理,浪費大量的人工時間,一支一支的滴到需要的高度,反復工作,會出現視覺疲勞,可能導致酸堿處理的失敗,因此,針對上述問題提出CVD金剛石涂層刀具酸堿預處理自動滴液器。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供CVD金剛石涂層刀具酸堿預處理自動滴液器,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
CVD金剛石涂層刀具酸堿預處理自動滴液器,包括滾珠絲杠機構、支架機構、滴管安裝裝置和自動滴管裝置,所述滾珠絲杠機構下端面固定連接有支架機構,所述滴管安裝裝置下端面固定連接有自動滴管裝置,所述自動滴管裝置下端面固定連接有支架機構,所述滾珠絲杠機構左右端面與支架機構固定連接。
優選的,所述滾珠絲杠機構包括步進電機、滑塊和第一滾動絲桿,所述滑塊內側螺旋連接有呈前后分布的絲桿,所述絲桿一端固定連接有步進電機,所述絲桿另一端分別固定連接有第二滾動絲桿和第一滾動絲桿,位于左側的所述步進電機下端面與支架機構固定連接,所述第一滾動絲桿下端面與支架機構固定連接,所述第二滾動絲桿下端面固定連接有滴管安裝裝置。
優選的,所述支架機構包括支架外殼、第一安裝架、試管架和第二安裝架,所述支架外殼左端面內側固定連接有第二安裝架,所述支架外殼右端面內側固定連接有第一安裝架,所述支架外殼內側設有試管架,所述支架外殼下端面固定連接有底座,所述第二安裝架和第一安裝架上端面均與滾珠絲杠機構固定連接。
優選的,所述滴管安裝裝置包括連接件、螺栓和滴管安裝件,所述連接件四周螺旋連接有螺栓,所述螺栓下方螺旋連接有滴管安裝件,所述連接件前端面螺旋連接有螺釘,所述滴管安裝件內部固定連接有呈左右分布的卡板。
優選的,所述自動滴管裝置包括滴管容器、第一溶液擋板和第二溶液擋板,所述滴管容器下端面開設有呈左右分布的凹槽,所述滴管容器下方滑動連接有呈上下分布的第一溶液擋板和第二溶液擋板,所述滴管容器通過凹槽與滴管安裝裝置固定連接。
與現有技術相比,本實用新型的有益效果是:
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





