[實用新型]用于生產氮化鎵晶體的反應釜的清洗裝置

有效

• 申請號: 201822079860.5
• 申請日: 2018-12-11
• 公開（公告）號: CN209205968U
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 林岳明;高明哲
• 申請（專利權）人: 上海璽唐半導體科技有限公司
• 主分類號: B08B9/08
• 分類號: B08B9/08;B08B9/093;B08B3/08;B08B13/00;F26B21/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種用于生產氮化鎵晶體的反應釜的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置包括清洗工位、管路系統和控制系統，

所述清洗工位用于放置待清洗的反應釜，

所述管路系統包括進水管、反應溶液輸入管、輸氣管和排放管，

所述進水管的一端用于連接至清洗水源，另一端用于連接至所述反應釜的腔室，所述進水管上設置有供水泵，所述供水泵能夠將所述清洗水源中的清洗水通過所述進水管輸送至所述反應釜的腔室中，

所述反應溶液輸入管的一端用于連接至用于盛放反應溶液的容納裝置，另一端用于連接至所述反應釜的腔室，所述反應溶液輸入管上設置有供液泵，所述供液泵能夠將所述反應溶液通過所述反應溶液輸入管輸送至所述反應釜的腔室中，所述反應溶液能夠與氮化鎵多晶和/或反應中間物反應以溶解所述氮化鎵多晶和/或反應中間物，

所述輸氣管的一端用于連接至干燥氣體源，另一端用于連接至所述反應釜的腔室，使得所述干燥氣體源中的干燥氣體能夠通過所述輸氣管輸送至所述反應釜的腔室而干燥所述腔室，

所述排放管的一端用于連接至所述反應釜的腔室，所述排放管上設置循環排放泵，所述循環排放泵能夠將所述反應釜的腔室中的液體通過所述排放管排出，

所述控制系統用于控制所述清洗水、所述反應溶液、所述干燥氣體的輸送及所述反應釜的腔室中的液體的排放。

2.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗工位包括第一清洗工位和第二清洗工位，

所述進水管包括第一進水管和第二進水管，

所述第一進水管的一端用于連接至作為所述清洗水的普通水、反滲透水或去離子水的清洗水源，另一端用于連接至位于所述第一清洗工位的所述反應釜的腔室，

所述第二進水管的一端用于連接至作為所述清洗水的去離子水的清洗水源，另一端用于連接至位于所述第二清洗工位的所述反應釜的腔室，

所述反應溶液輸入管用于連接至位于所述第一清洗工位的所述反應釜的腔室，

所述輸氣管用于連接至位于所述第二清洗工位的所述反應釜的腔室，

所述排放管包括第一排放管和第二排放管，所述第一排放管用于將位于所述第一清洗工位的所述反應釜的腔室中的液體排出，所述第二排放管用于將位于所述第二清洗工位的所述反應釜的腔室中的液體排出。

3.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述排放管包括廢水排放管和反應溶液排放管，

所述廢水排放管的一端用于連接至所述反應釜的腔室，另一端用于連接至廢液排出口，使得能夠將所述反應釜的腔室中的廢水排出至所述廢液排出口，

所述反應溶液排放管的一端用于連接至所述反應釜的腔室，另一端用于連接至所述容納裝置，所述循環排放泵能夠將所述反應釜的腔室中的反應溶液排放回所述容納裝置。

4.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述進水管、所述反應溶液輸入管、所述輸氣管和所述排放管上均設置有用于通斷控制的閥。

5.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述進水管上設置水槍，和/或所述輸氣管上設置氣槍。

6.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述容納裝置中設置第一加熱器，所述輸氣管上設置第二加熱器。

7.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗工位的上方設置噴淋系統，所述噴淋系統與所述進水管連接，所述噴淋系統用于清洗所述反應釜的內外壁，

所述噴淋系統包括噴頭和噴淋板，所述噴頭安裝于所述噴淋板，所述噴淋板能夠相對于所述清洗工位翻轉。

8.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括排風系統，所述排風系統包括依次連通的進風口、排風通道和出風口，所述進風口設置于所述清洗工位的上方。

9.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括殼體，所述清洗工位、所述管路系統和所述控制系統設置于所述殼體中。

10.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述干燥氣體為氮氣，和/或所述反應溶液為氫氧化鉀溶液。