[實用新型]一種無硅離型膜有效
| 申請號： | 201822078153.4 | 申請日： | 2018-12-11 |
| 公開（公告）號： | CN210103807U | 公開（公告）日： | 2020-02-21 |
| 發明（設計）人： | 姜濤 | 申請（專利權）人： | 廈門翌陽電子科技有限公司 |
| 主分類號： | C08J7/04 | 分類號： | C08J7/04;C09J7/40;C08L67/02 |
| 代理公司： | 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 張清彥 |
| 地址： | 361000 福建省廈門市中國（福建）自由貿易試驗區*** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 無硅離型膜 | ||
【權利要求書】：
1.一種無硅離型膜，其特征在于，包括基材層，所述基材層的一側面形成電暈層，所述電暈層的表面形成無硅離型層，所述無硅離型層采用烷烴共聚物材質，所述無硅離型層的厚度為4μm，離型力為20-50G。
2.根據權利要求1所述的一種無硅離型膜，其特征在于：所述基材層采用聚對苯二甲酸乙二醇酯材質。
3.根據權利要求2所述的一種無硅離型膜，其特征在于：所述基材層的厚度50～75μm，透光率為92～95％，霧度為1.5～2％。
4.根據權利要求1所述的一種無硅離型膜，其特征在于：所述電暈層的厚度為2～4μm，所述電暈層進行電暈處理的功率為12～22KW。
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