[實用新型]一種二氧化鋯打磨裝置

有效

• 申請號: 201822072608.1
• 申請日: 2018-12-11
• 公開（公告）號: CN209425176U
• 公開（公告）日: 2019-09-24
• 發明（設計）人: 萬自輝;李衛紅
• 申請（專利權）人: 廣州市大正義齒有限公司
• 主分類號: B24B19/00
• 分類號: B24B19/00;B24B55/06;B24B55/02
• 代理公司: 廣州匯航專利代理事務所(普通合伙) 44537
• 代理人: 張靜

1.一種二氧化鋯打磨裝置，包括支架(1)、殼體(4)、伺服電機(7)和打磨部(5)，所述支架(1)的頂端設置有所述殼體(4)，所述殼體(4)的內部安裝固定有所述伺服電機(7)，所述伺服電機(7)的輸出端與所述打磨部(5)固定，其特征在于，所述殼體(4)靠近所述伺服電機(7)的輸出端的一側設置有除塵部(42)，所述除塵部(42)的中部設置有第一通孔(422)，所述第一通孔(422)與所述打磨部(5)滑動連接，所述除塵部(42)的側面均勻設置有第二通孔(421)，所述第二通孔(421)與所述除塵部(42)的內腔相連通，所述除塵部(42)的底端設置有第一連接端(423)，第一連接端(423)與第二連接端(61)以螺紋連接，且第二連接端(61)置于軟管(6)的一端。

2.根據權利要求1所述的一種二氧化鋯打磨裝置，其特征在于，所述殼體(4)遠離所述打磨部(5)的一側設置有第一固定端(41)，所述第一固定端(41)與第二固定端(32)連接固定，且第二固定端(32)置于蓋體(3)的內壁。

3.根據權利要求2所述的一種二氧化鋯打磨裝置，其特征在于，所述第一固定端(41)為外螺紋，所述第一固定端(41)為內螺紋。

4.根據權利要求2所述的一種二氧化鋯打磨裝置，其特征在于，所述第一固定端(41)為第一磁性件，所述第二固定端(32)為第二磁性件，且第一磁性件與第二磁性件磁性相吸。

5.根據權利要求2所述的一種二氧化鋯打磨裝置，其特征在于，所述第一固定端(41)為彈性墊，所述第二固定端(32)為防滑墊。

6.根據權利要求2所述的一種二氧化鋯打磨裝置，其特征在于，所述蓋體(3)的外側設置有防滑部(31)，所述防滑部(31)采用橡膠墊或者凸起。

7.根據權利要求2至5任意一項所述的一種二氧化鋯打磨裝置，其特征在于，所述蓋體(3)與所述伺服電機(7)之間設置有緩沖墊(2)。

8.根據權利要求7所述的一種二氧化鋯打磨裝置，其特征在于，所述蓋體(3)通過彈簧與所述緩沖墊(2)連接。