[實用新型]一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置有效
| 申請號: | 201822070621.3 | 申請日: | 2018-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN209368358U | 公開(公告)日: | 2019-09-10 |
| 發明(設計)人: | 王艾魚;丁悅之;應懷宇 | 申請(專利權)人: | 上海莫秋環境技術有限公司 |
| 主分類號: | C23F15/00 | 分類號: | C23F15/00;C02F1/48 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 200120 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水箱本體 發射器 補水箱 上端 桿式 本實用新型 排氣閥 排污閥 水箱 腐蝕 電磁波激發 粉末狀結晶 過飽和狀態 交變電磁場 析出 成垢物質 離子電流 受熱表面 電磁波 出水口 處理區 進人孔 進水口 鈣鎂 水中 下端 硬垢 阻垢 疊加 懸浮 激發 | ||
本實用新型提供了一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置,包括電磁波激發系統、至少一對桿式發射器和水箱本體,所述一對桿式發射器安裝在水箱本體上,所述水箱本體上端設置有一排氣閥,所述排氣閥位于兩個桿式發射器之間,所述水箱本體上端一側設置有一補水箱進水口,另一側設置有一補水箱進人孔,所述水箱本體下端一側設置有一排污閥,所述排污閥上端設置有一補水箱出水口,本實用新型運用特頻電磁波直接對水進行處理,在處理區形成離子電流疊加交變電磁場,成垢物質會被激發,直接在水中結合,生成鈣鎂鹽類,呈懸浮粉末狀結晶析出,隨水流沖走,而不會在過飽和狀態下于受熱表面形成硬垢,從而達到阻垢的目的。
技術領域
本實用新型涉及水處理領域,具體涉及到一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置。
背景技術
在鍋爐補充水系統中,都需要一套維護程序以達到有效控制結垢和腐蝕的目的。目前市場上的方法仍以化學法為主,其它物理法包括永磁法、電磁感應線圈法等。
化學藥劑法主要缺點包括:對補充水水質有要求,通常還需要前置軟水器及除氧裝置;多種水處理藥劑的化學品被列為危險物質,需要經過培訓的的專職人員進行操作,以應對化學品泄漏或是暴露事件;無法準確控制藥劑添加量,常處于藥劑不足或過量狀態,影響處理效果;藥劑本身進入水系統,會產生化學品積垢;可控制的鍋爐水濃縮倍數低,浪費能耗;排水對環境不友好。
實用新型內容
針對現有技術存在上述的不足,本實用新型提供了一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置,本實用新型將特頻電磁波激發裝置一極與置入水中的發射器相連,另一極與金屬水箱連通,發射的特定頻段電磁波在形成處理區,水中發射器產生時變電磁波能將能量有效的賦予水,水能夠很好的響應這種波,其展現出的物理性能可以有效地控制熱水循環系統和鍋爐水補充水系統處理中常見的結垢和腐蝕問題。
本實用新型的技術方案為,一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置,包括電磁波激發系統、至少一對桿式發射器和水箱本體,所述一對桿式發射器安裝在水箱本體上,所述水箱本體上端設置有一排氣閥,所述排氣閥位于兩個桿式發射器之間,所述水箱本體上端一側設置有一補水箱進水口,另一側設置有一補水箱進人孔,所述水箱本體下端一側設置有一排污閥,所述排污閥上端設置有一補水箱出水口,所述水箱本體下端至少設置有一接收極。
上述的一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置,其中,所述桿式發射器通過管套安裝在水箱本體上,所述桿式發射器為MMO桿式發射器。
上述的一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置,其中,所述電磁波激發系統包括電控柜,所述接收極通過接收極電纜與電控柜相連,所述桿式發射器通過發射器電纜與電控柜相連。
上述的一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置,其中,所述MMO桿式發射器的桿徑為6mm~20mm,可為空心或實心。
上述的一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置,其中,所述MMO為鈦基材涂覆金屬氧化物,可涂覆的金屬氧化物包括釕、銥、鈦、鉑的金屬氧化物。
上述的一種用于水箱中結垢和腐蝕進行控制的裝置,其中,所述電磁波激發系統輸出電壓為12V~60V。
本實用新型具有以下有益效果:1、本實用新型運用特頻電磁波直接對水進行處理,在處理區形成離子電流疊加交變電磁場,在此電磁場的作用下,成垢物質(主要包括Ca2+、Mg2+、HCO3-、SO42-)會被激發,直接在水中結合,生成鈣鎂鹽類,呈懸浮粉末狀結晶析出,隨水流沖走,而不會在過飽和狀態下于受熱表面形成硬垢,從而達到阻垢的目的。
附圖說明
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