[實用新型]靶材冷卻裝置

有效

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• 申請日: 2018-12-10
• 公開（公告）號: CN209243163U
• 公開（公告）日: 2019-08-13
• 發(fā)明（設計）人: 何文;薛超;吳龍江;林宗賢
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 上海盈盛知識產權代理事務所(普通合伙) 31294
• 代理人: 孫佳胤

該實用新型涉及一種靶材冷卻裝置，包括：密封蓋，安裝至靶材基板，用于在所述靶材基板表面形成密閉空間；流體泵，連通至所述密閉空間，用于向所述密閉空間內泵入流體，或抽出所述密閉空間內的流體，以冷卻所述靶材。本實用新型的靶材冷卻裝置在靶材基板表面形成了密閉空間，并使用一流體泵連通至所述密閉空間，往密閉空間內通入流體或泵出流體，使用流體對靶材進行冷卻。進一步的，還設置有與所述靶材基板的表面相接觸的水袋，通過水袋中盛裝的水的較大比熱容，也能對靶材起到一定的冷卻作用。使用該靶材冷卻裝置，能夠避免使用水冷方式對靶材進行冷卻時對靶材、磁鐵和管路的影響，能夠優(yōu)化物理氣相沉積機臺的生產效能。

技術領域

本實用新型涉及物理氣相沉積領域，具體涉及一種靶材冷卻裝置。

背景技術

現有技術中，使用物理氣相沉積的方式對晶圓、半導體器件進行鍍膜工藝時，會用到靶材。靶材放置在物理氣相沉積的腔體內，在濺射過程中，靶材表面的溫度很高，需要不斷的對靶材進行冷卻，以防止高溫影響。

在現有技術中，通常使用水冷循環(huán)的方式，以實現對靶材的冷卻。然而使用該方法冷卻靶材時，由于去離子水直接與物理氣相沉積機臺中的磁鐵、管路、馬達等直接接觸，且去離子水在循環(huán)使用的過程中很容易滋生微生物，因此會影響到靶材和管路的正常使用，并會影響磁鐵旋轉的效能，從而影響到物理氣相沉積機臺的生產效能。提供一種能夠優(yōu)化物理氣相沉積機臺的生產效能的靶材冷卻方法，是本領域亟待解決的技術問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種靶材冷卻裝置，能夠優(yōu)化物理氣相沉積機臺的生產效能。

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種靶材冷卻裝置，包括：密封蓋，安裝至靶材基板，用于在所述靶材基板表面形成密閉空間；流體泵，連通至所述密閉空間，用于向所述密閉空間內泵入流體，或抽出所述密閉空間內的流體，以冷卻所述靶材。

可選的，還包括水袋，設置于所述密封蓋與所述靶材基板之間。

可選的，還包括壓板，設置于所述密封蓋與所述水袋之間，通過彈性連接件連接至所述密封蓋，用于頂壓所述水袋，使水袋與所述靶材基板相接觸。

可選的，所述彈性連接件包括彈簧螺絲。

可選的，還包括密封圈，設置于所述密封蓋與所述靶材基板相接觸的位置，以保證所述密閉空間的密封性。

可選的，還包括流體管路，設置于所述流體泵和所述密閉空間之間，用于連通所述流體泵和所述密閉空間。

可選的，所述流體管路包括：通入管路，設置于所述流體泵和所述密閉空間之間，連通所述流體泵和所述密閉空間，用于供流體泵將流體泵入所述密閉空間；通出管路，設置于所述流體泵和所述密閉空間之間，連通所述流體泵和所述密閉空間，用于供流體泵將密閉空間內的流體抽出所述密閉空間。

可選的，還包括溫度偵測器，設置于所述通出管路上，用于對流經所述通出管路的流體的溫度進行監(jiān)測。

可選的，還包括流量控制閥，設置于所述通出管路上，用于控制所述流體泵自所述密閉空間抽出的流體的量。

可選的，所述流體泵包括：壓縮機，連通至所述密閉空間，用于將流體泵入所述密閉空間，以及用于將密閉空間內的流體抽出。

本實用新型的靶材冷卻裝置在靶材基板表面形成了密閉空間，并使用一流體泵連通至所述密閉空間，往密閉空間內通入流體或泵出流體，使用流體對靶材進行冷卻。進一步的，還設置有與所述靶材基板的表面相接觸的水袋，通過水袋中盛裝的水的較大比熱容，也能對靶材起到一定的冷卻作用。使用該靶材冷卻裝置，能夠避免使用水冷方式對靶材進行冷卻時對靶材、磁鐵和管路的影響，能夠優(yōu)化物理氣相沉積機臺的生產效能。

附圖說明

圖1為本實用新型的一種具體實施方式中的靶材冷卻裝置的結構示意圖。