[實用新型]一種水性納米涂料研磨裝置

有效

• 申請號: 201822065651.5
• 申請日: 2018-12-10
• 公開（公告）號: CN209174026U
• 公開（公告）日: 2019-07-30
• 發明（設計）人: 賴國興;李虹靜;黃鐘輝;黃成湖
• 申請（專利權）人: 福建桓興材料科技有限公司
• 主分類號: B02C7/08
• 分類號: B02C7/08;B02C7/12;B02C18/10;B02C18/16;B02C18/18;B02C18/22;B02C21/00
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本實用新型公開了涂料研磨技術領域的一種水性納米涂料研磨裝置，包括研磨罐，所述研磨罐上固定安裝有驅動電機，所述研磨罐的內腔頂部固定安裝有集料漏斗，所述研磨罐的頂部位于集料漏斗的上側安裝有入料斗，所述驅動電機的輸出端連接有轉桿，所述轉桿上安裝有研磨轉筒，所述研磨轉筒的內腔設置有慣性飛輪，所述研磨轉筒的外側均布安裝有分散鉸刀，本實用新型便于通過高速旋轉的研磨轉筒帶動分散鉸刀進行高速分散，分散鉸刀配合穿插交錯排布的研磨棒將大多涂料進行均勻分散，飛輪高速旋轉的慣性使研磨轉筒在高速旋轉時更加平順穩定，分散后的物料在上磨盤和下磨盤中進行再次研磨，使得研磨效果得到提升，形成穩定的顆粒。

技術領域

本實用新型涉及涂料研磨技術領域，具體為一種水性納米涂料研磨裝置。

背景技術

為了提高納米涂料的質量，對于納米涂料的勻性、耐厚性、光澤度等指標要求非常嚴格，納米涂料的生產過程就是把納米粉體和填料粒子混入液體基料中，基料包括樹脂或溶劑，以及其他液體，形成均勻微細的懸浮分散體，納米粉末和填料粒子很細小，在混合和分散過程中聚集成大的二次粒子，此時就需要使用分散或研磨設備使之解除聚集,形成穩定的分子顆粒，并均勻地分散于基料中，納米漿料或粉體品質的優劣取決于三大因素：分散研磨設備、配方、原材料優劣，其中分散和研磨裝備是關鍵因素之一。

現有的研磨機大多采用同一種方式進行研磨，使納米材料和填料得不到很好的研磨，研磨效率較低，效果不太理想。

基于此，本實用新型設計了一種水性納米涂料研磨裝置，以解決上述問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種水性納米涂料研磨裝置，以解決上述背景技術中提出的現有的研磨機大多采用同一種方式進行研磨，使納米材料和填料得不到很好的研磨，研磨效率較低，效果不太理想的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種水性納米涂料研磨裝置，包括研磨罐，所述研磨罐上固定安裝有驅動電機，所述研磨罐的內腔頂部固定安裝有集料漏斗，所述研磨罐的頂部位于集料漏斗的上側安裝有入料斗，所述驅動電機的輸出端連接有轉桿，所述轉桿上安裝有研磨轉筒，所述研磨轉筒的內腔設置有慣性飛輪，所述研磨轉筒的外側均布安裝有分散鉸刀，所述研磨罐的內壁均布安裝有研磨棒，所述分散鉸刀和研磨棒上下交錯排布，所述轉桿的底端安裝有上磨盤，所述上磨盤的底部安裝有下磨盤，所述下磨盤通過支架安裝在研磨罐中，所述研磨罐的底部安裝有出料管，所述出料管上設置有出料閥。

優選的，所述轉桿貫穿集料漏斗和研磨轉筒，所述慣性飛輪設置有兩個，且均固定安裝在轉桿上。

優選的，所述上磨盤的底部設置有上磨齒，所述下磨盤的頂部設置有下磨齒，所述上磨齒和下磨齒進行交錯配合磨料。

優選的，所述研磨轉筒和上磨盤之間設置有隔板，所述隔板向中心內陷，所述隔板的中心處開設有漏槽。

優選的，所述上磨盤中開設有頂朝下的圓錐槽，所述圓錐槽貫穿上磨盤。

優選的，所述研磨罐的底部安裝有穩定支撐腳。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：本實用新型便于通過高速旋轉的研磨轉筒帶動分散鉸刀進行高速分散，分散鉸刀配合穿插交錯排布的研磨棒將大多涂料進行均勻分散，飛輪高速旋轉的慣性使研磨轉筒在高速旋轉時更加平順穩定，分散后的物料在上磨盤和下磨盤中進行再次研磨，使得研磨效果得到提升，形成穩定的顆粒。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術方案，下面將對實施例描述所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型結構示意圖；