[實用新型]能存放25×43inch超大菲林的架子有效
| 申請號: | 201822043539.1 | 申請日: | 2018-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN209514298U | 公開(公告)日: | 2019-10-18 |
| 發明(設計)人: | 賀卓;沈文;龔德勛;虢珂 | 申請(專利權)人: | 奧士康科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 長沙明新專利代理事務所(普通合伙) 43222 | 代理人: | 徐新 |
| 地址: | 413000 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 菲林 頂桿 中間桿 架子 本實用新型 固定結構 夾持結構 運輸過程 擦傷 晃動 平行 | ||
本實用新型提供一種能存放25×43inch超大菲林的架子。所述能存放25×43inch超大菲林的架子包括框架;三個頂桿,三個所述頂桿固定安裝在所述框架的頂部;三個中間桿,三個所述中間桿固定安裝在所述框架內并與所述頂桿平行;三個夾持結構,三個所述夾持結構分別固定安裝在對應的所述頂桿上;三個固定結構,三個所述固定結構分別固定安裝在對應的所述中間桿上。本實用新型提供的能存放25×43inch超大菲林的架子具有使用方便、可以對菲林進行很好舒展存放,同時,在運輸過程中不會晃動擦傷的優點。
技術領域
本發明涉及支架技術領域,尤其涉及一種能存放25×43inch超大菲林的架子。
背景技術
PCB行業中廣泛用到菲林,菲林,就相當于照片的底片一樣,在精度印刷時是必不可少一道工序,菲林分為陽片和陰片,在菲林生產工程中,用到菲林架子對菲林進行存放,可以防止菲林彎曲報廢,造成成本增加及降低工作效率。
然而傳統的存放菲林的架子在使用過程中由于尺寸過小,對于大的菲林存放不能起到很好的保護作用,無法將正常的將菲林舒展開并掛好,容易導致菲林彎曲折損,同時,在菲林運輸時,菲林在架子中容易晃動而造成擦傷報廢。
因此,有必要提供一種新的能存放25×43inch超大菲林的架子解決上述技術問題。
發明內容
本發明解決的技術問題是提供一種使用方便、可以對菲林進行很好舒展存放,同時,在運輸過程中不會晃動擦傷的能存放25×43inch 超大菲林的架子。
為解決上述技術問題,本發明提供的能存放25×43inch超大菲林的架子包括:框架;三個頂桿,三個所述頂桿固定安裝在所述框架的頂部;三個中間桿,三個所述中間桿固定安裝在所述框架內并與所述頂桿平行;三個夾持結構,三個所述夾持結構分別固定安裝在對應的所述頂桿上;三個固定結構,三個所述固定結構分別固定安裝在對應的所述中間桿上。
優選的,所述夾持結構包括第一安裝塊、連接桿、套管、第一滑動桿、第一把手、第一彈簧、兩個鉸接桿、兩個通孔和兩個支撐桿,所述第一安裝塊與所述頂桿固定連接,所述連接桿與所述第一安裝塊固定連接,所述套管與所述連接桿固定連接,所述第一滑動桿滑動安裝在所述套管內,所述第一把手固定安裝在所述第一滑動桿的頂端,所述彈簧滑動套設在所述第一滑動桿的外側,所述彈簧的頂端與所述第一把手固定連接,所述彈簧的底端與所述套管固定連接,兩個所述鉸接桿對稱鉸接在所述第一滑動桿的底端,兩個所述通孔分別開設在所述套管的兩側內壁上,所述鉸接桿與對應的所述通孔活動連接,所述支撐桿轉動安裝在所述通孔內,且所述支撐桿的頂端與所述鉸接桿的底端鉸接。
優選的,所述固定結構包括第二安裝塊、第一安裝桿、第一固定塊、第二滑動桿、滑塊、安裝孔、連接軸、第一滑動孔、第二彈簧、第二安裝桿、第二固定塊、固定桿、卡銷、第二把手、第三彈簧和卡槽,所述第二安裝塊與所述中間桿固定連接,所述第一安裝桿固定安裝所述第二安裝塊的頂部,所述第一固定塊固定安裝在所述第一安裝桿的一側,所述第二滑動桿固定安裝在第二安裝塊的一側,所述滑塊滑動安裝在所述第二滑動桿上,所述安裝孔開設在所述滑塊上,所述第二滑動桿與安裝孔的內壁滑動連接,且所述第二滑動桿的兩端均延伸至所述安裝孔外,所述連接軸固定安裝在所述安裝孔內并與所述安裝孔的兩側內壁固定連接,所述第一滑動孔開設在所述第二滑動桿上,所述連接軸與第一滑動孔滑動連接,所述第二彈簧固定安裝在所述第一滑動孔的內壁上,且所述第二彈簧的一端與連接軸固定連接,所述第二安裝桿固定安裝在所述滑塊的頂部,所述第二固定塊固定安裝在所述第二安裝桿遠離第一安裝桿的一側,所述固定桿固定安裝在所述滑塊靠近第二安裝塊的一側,所述固定桿上滑動安裝有所述卡銷,所述卡銷貫穿所述固定桿,所述第二把手固定安裝在所述卡銷的頂端,所述第三彈簧滑動套設在所述卡銷的外側,所述第三彈簧的頂端與所述第二把手固定連接,所述第三彈簧的底端與所述固定桿固定連接,所述卡槽開設在所述滑動桿的頂部,所述卡槽與所述卡銷相適配。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





