[實用新型]等離子體氣相沉積用工件固定治具及等離子體氣相沉積設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201822039326.1
• 申請日: 2018-12-06
• 公開（公告）號: CN209555369U
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發(fā)明（設計）人: 柏洋;吳其濤
• 申請（專利權）人: 星弧涂層新材料科技(蘇州)股份有限公司
• 主分類號: C23C16/513
• 分類號: C23C16/513;C23C16/458
• 代理公司: 南京艾普利德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32297
• 代理人: 陸明耀;顧祥安

1.等離子體氣相沉積用工件固定治具，其特征在于：包括可繞其軸線自轉的圓盤（1），所述圓盤（1）上可自轉地垂設有一組呈圓形分布的載具（2），一組所述載具（2）與所述圓盤（1）共同形成一占據(jù)圓柱形空間的整體裝置（10），所述整體裝置（10）連接電源（3）且所述整體裝置的形狀滿足其通電后，產生的電磁場集中于所述整體裝置（10）的表面區(qū)域。

2.根據(jù)權利要求1所述的等離子體氣相沉積用工件固定治具，其特征在于：所述圓盤（1）為圓環(huán)形，其內徑不小于一組所述載具（2）形成的圓環(huán)（4）的內徑（d1）。

3.根據(jù)權利要求1所述的等離子體氣相沉積用工件固定治具，其特征在于：所述整體裝置（10）還包括與所述圓盤（1）共軸的圓形傘盤（5），所述圓形傘盤（5）設置于至少一垂設于圓盤（1）的支柱（6）上，其覆蓋在一組所述載具（2）的上方且與一組所述載具（2）的頂部保持微間隙。

4.根據(jù)權利要求3所述的等離子體氣相沉積用工件固定治具，其特征在于：所述圓形傘盤（5）為圓環(huán)狀，其內徑不小于一組所述載具（2）形成的圓環(huán)（4）的內徑（d1）。

5.根據(jù)權利要求3所述的等離子體氣相沉積用工件固定治具，其特征在于：所述支柱（6）與所述圓盤（1）共軸，其直徑與一組所述載具（2）形成的圓環(huán)（4）的內徑（d1）相當。

6.據(jù)權利要求3所述的等離子體氣相沉積用工件固定治具，其特征在于：所述支柱（6）的圓周面的至少上端區(qū)域設置有外螺紋（61），所述圓形傘盤（5）上具有帶內螺紋的連接孔或槽（51）。

7.根據(jù)權利要求1-6任一所述的等離子體氣相沉積用工件固定治具，其特征在于：所述整體裝置（10）的直徑（d）和高度（h）的比值大于1:2。

8.根據(jù)權利要求7所述的等離子體氣相沉積用工件固定治具，其特征在于：所述電源（3）是偏壓脈沖電源。

9.等離子體氣相沉積設備，其特征在于：包括權利要求1-8任一所述的等離子體氣相沉積用工件固定治具，所述等離子體氣相沉積用工件固定治具能夠進出真空室。

10.根據(jù)權利要求9所述的等離子體氣相沉積設備，其特征在于：還包括驅動所述圓盤（1）和載具（2）轉動的動力裝置（7），所述動力裝置（7）以電機（71）為動力源驅動所述圓盤（1）轉動，所述圓盤（1）下方共軸設置一太陽齒輪，所述太陽齒輪與多個行星齒輪嚙合，每個行星齒輪共軸固定于一所述載具（2）的底部。