[實用新型]真空電子束鍍膜裝置有效
| 申請號： | 201822030867.8 | 申請日： | 2018-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN209144245U | 公開（公告）日： | 2019-07-23 |
| 發明（設計）人： | 賴奇;廖先杰;肖傳海;彭富昌;鄒宇;李俊瀚;江思媛;黃雙華;范立男 | 申請（專利權）人： | 攀枝花學院;成都天宇坤實機電設備有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/30 | 分類號： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 成都虹橋專利事務所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 許澤偉 |
| 地址： | 617000 四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空室 鍍膜 電子束爐 連通 后置 前置 本實用新型 真空電子束 鍍膜工件 鍍膜裝置 加熱真空 冷卻真空 鍍膜層 晶粒組織結構 氧化成氧化物 材料內部 鍍膜材料 鍍膜效率 多級加熱 多級冷卻 耐腐蝕性 真空環境 出口端 進口端 單級 加熱 冷卻 取出 金屬 | ||
1.真空電子束鍍膜裝置，其特征在于：包括電子束爐(1)、前置真空室(2)、加熱真空室(4)、后置真空室(3)和冷卻真空室(5)；所述前置真空室(2)連通在電子束爐(1)的進口端，加熱真空室(4)連通在前置真空室(2)與電子束爐(1)之間；所述后置真空室(3)連通在電子束爐(1)的出口端，冷卻真空室(5)連通在后置真空室(3)與電子束爐(1)之間；所述電子束爐(1)由至少一個工作腔(11)組成，每個工作腔(11)內設有至少一把電子槍(12)。
2.如權利要求1所述的真空電子束鍍膜裝置，其特征在于：所述電子束爐(1)由1～3個連通的工作腔(11)組成，每個工作腔(11)內設有1～2把電子槍(12)。
3.如權利要求1或2所述的真空電子束鍍膜裝置，其特征在于：所述前置真空室(2)由至少兩個連通的前置真空腔(21)組成，所述后置真空室(3)由至少兩個連通的后置真空腔(31)組成，所述前置真空腔(21)與后置真空腔(31)內都設有平板真空裝置。
4.如權利要求3所述的真空電子束鍍膜裝置，其特征在于：所述前置真空室(2)由2～8個連通的前置真空腔(21)組成，所述后置真空室(3)由2～8個連通的后置真空腔(31)組成。
5.如權利要求1或2所述的真空電子束鍍膜裝置，其特征在于：所述加熱真空室(4)由至少一個加熱真空腔(41)組成，所述冷卻真空室(5)由至少兩個冷卻真空腔(51)組成；所述加熱真空腔(41)內設有平板真空加熱裝置，所述冷卻真空腔(51)內設有平板真空冷卻裝置。
6.如權利要求5所述的真空電子束鍍膜裝置，其特征在于：所述加熱真空室(4)由1～4個連通的加熱真空腔(41)組成，所述冷卻真空室(5)由2～4個連通的冷卻真空腔(51)組成。
7.如權利要求1或2所述的真空電子束鍍膜裝置，其特征在于：所述電子槍(12)傾斜設置，傾斜角度為10～40°。
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