[實用新型]一種低熱值含水污泥等離子熔融無害化處理系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822028732.8 | 申請日: | 2018-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN209431421U | 公開(公告)日: | 2019-09-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭志;王碩;張海新;屈振樂;王金龍;王志剛;劉志敏 | 申請(專利權(quán))人: | 航天環(huán)境工程有限公司 |
| 主分類號: | F23G7/00 | 分類號: | F23G7/00;F23G5/04;F23G5/02;F23G5/08;F23G5/44;F23G5/46;F23J1/06;F23J15/00 |
| 代理公司: | 天津盛理知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12209 | 代理人: | 韓曉梅 |
| 地址: | 300301 天津市西青區(qū)濱海高*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 含水污泥 輸出端 等離子熔融 連接設(shè)置 煙氣凈化裝置 落料裝置 自動計量 均布 無害化處理系統(tǒng) 預(yù)處理裝置 生產(chǎn)裝置 水淬渣 無機物 本實用新型 資源化利用 達(dá)標(biāo)排放 高溫?zé)煔?/a> 熔融液體 有機物 無害化 重金屬 煙氣 分解 輸出 | ||
1.一種低熱值含水污泥等離子熔融無害化處理系統(tǒng),其特征在于:所述系統(tǒng)包括低熱值含水污泥預(yù)處理裝置、自動計量均布落料裝置、等離子熔融裝置、水淬渣生產(chǎn)裝置和煙氣凈化裝置,所述低熱值含水污泥預(yù)處理裝置的輸入端能夠輸入低熱值含水污泥,該低熱值含水污泥預(yù)處理裝置的輸出端與自動計量均布落料裝置的輸入端相連接設(shè)置,該自動計量均布落料裝置的輸出端與等離子熔融裝置的輸入端相連接設(shè)置,該等離子熔融裝置的輸出端包括熔融液體輸出端和高溫?zé)煔廨敵龆耍鋈廴谝后w輸出端與水淬渣生產(chǎn)裝置的輸入端相連接設(shè)置,所述高溫?zé)煔廨敵龆伺c煙氣凈化裝置的輸入端相連接設(shè)置,該煙氣凈化裝置的輸出端能夠輸出達(dá)標(biāo)排放的煙氣;
所述低熱值含水污泥預(yù)處理裝置能夠?qū)⒌蜔嶂岛勰噙M行初級干化至含水率為20wt%~45wt%,然后將其與河沙、配伍料混合,再將混合物進行擠壓造粒形成粒徑為5~30mm的粒狀成品,并對其進行二級干化至含水率小于20%,得到入爐料;所述自動計量均布落料裝置能夠?qū)θ霠t料進行自動計量、自動定量連續(xù)加料、物料均布落料;所述等離子熔融裝置能夠?qū)ψ詣佑嬃烤悸淞涎b置處理后的物料在1500℃~1650℃的環(huán)境下進行熔融處理;所述水淬渣生產(chǎn)裝置能夠?qū)Φ入x子熔融裝置處理后液體在40~60℃進行水淬,得到無害的水淬渣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低熱值含水污泥等離子熔融無害化處理系統(tǒng),其特征在于:所述低熱值含水污泥預(yù)處理裝置包括依次相連接設(shè)置的緩存?zhèn)}、擠壓加料裝置、初級干化裝置、計量配料混料裝置、擠壓造粒裝置和二級干化裝置,所述緩存?zhèn)}的輸入端能夠輸入低熱值含水污泥;所述初級干化裝置能夠?qū)⑽勰喔苫梁蕿?0%~45wt%,所述計量配料混料裝置能夠?qū)⑽勰唷⒑由场⑴湮榱线M行配料和混合,所述擠壓造粒裝置能夠?qū)⒒旌虾蟮奈锪现瞥闪6葹?~30mm的粒狀成品,所述二級干化裝置能夠?qū)⒃炝:蟮奈锪细苫梁市∮?0%,得到含水率小于20%的粒狀的入爐料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低熱值含水污泥等離子熔融無害化處理系統(tǒng),其特征在于:所述自動計量均布落料裝置包括依次相連接設(shè)置的緩存?zhèn)}、連續(xù)計量給料裝置和均布落料裝置,所述緩存?zhèn)}能夠輸入低熱值含水污泥預(yù)處理裝置處理后的物料,所述連續(xù)計量給料裝置能夠自動定量連續(xù)加料,所述均布落料裝置能夠使物料均布落料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低熱值含水污泥等離子熔融無害化處理系統(tǒng),其特征在于:所述等離子熔融裝置包括熔融爐、熔池、等離子加熱區(qū)、連續(xù)溢流排液排氣口、高溫等離子火炬發(fā)生器、觀火孔和排凈口,所述熔融爐內(nèi)制有空腔,該空腔的底部設(shè)置為碗形,該空腔的底部設(shè)置為熔池,該熔池上方的空腔設(shè)置為等離子加熱區(qū),該熔融爐的頂部與均布落料裝置相連接設(shè)置,該熔融爐的頂部上也設(shè)置觀火孔,該觀火孔與空腔頂部相連通設(shè)置,該熔融爐的下部間隔設(shè)置連續(xù)溢流排液排氣口、排凈口,該連續(xù)溢流排液排氣口與熔池頂部相連通設(shè)置,所述連續(xù)溢流排液排氣口連續(xù)排出的液體能夠進入水淬渣生產(chǎn)裝置中,該排凈口與熔池底部相連通設(shè)置;所述熔池上方的熔融爐上沿圓周方向均布間隔設(shè)置3支以上高溫等離子火炬發(fā)生器,該高溫等離子火炬發(fā)生器能夠?qū)Φ入x子加熱區(qū)進行加熱。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低熱值含水污泥等離子熔融無害化處理系統(tǒng),其特征在于:所述水淬渣生產(chǎn)裝置包括水封槽、刮板出渣裝置、循環(huán)水冷卻系統(tǒng)、蒸氣收集與高溫?zé)煔饣旌贤馀畔到y(tǒng),所述水封槽的輸入端能夠輸入等離子熔融裝置處理后的高溫液體,該水封槽內(nèi)能夠盛裝水淬用水,該水封槽分別與刮板出渣裝置、循環(huán)水冷卻系統(tǒng)、蒸氣收集與高溫?zé)煔饣旌贤馀畔到y(tǒng)相連接設(shè)置,所述刮板出渣裝置能夠輸出水封槽內(nèi)的水淬渣,所述循環(huán)水冷卻系統(tǒng)能夠控制水封槽內(nèi)的水溫維持在40~60℃,所述蒸氣收集與高溫?zé)煔饣旌贤馀畔到y(tǒng)能夠收集水封槽內(nèi)水淬時產(chǎn)生的高溫?zé)煔獠⑼馀拧?/p>
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項所述的低熱值含水污泥等離子熔融無害化處理系統(tǒng),其特征在于:所述煙氣凈化裝置包括依次相連接設(shè)置的余熱鍋爐、干式脫酸反應(yīng)器、除塵器和濕式脫酸塔、煙氣消白煙系統(tǒng),所述余熱鍋爐上設(shè)置SCR脫硝反應(yīng)器,所述余熱鍋爐包括氣體入口,所述等離子熔融裝置的高溫?zé)煔廨敵龆伺c余熱鍋爐的氣體入口相連接設(shè)置。
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