[實用新型]一種高壓條件下的光譜測量裝置

有效

• 申請號: 201822028372.1
• 申請日: 2018-11-25
• 公開（公告）號: CN209542432U
• 公開（公告）日: 2019-10-25
• 發明（設計）人: 張向平;方曉華
• 申請（專利權）人: 金華職業技術學院
• 主分類號: G01N21/25
• 分類號: G01N21/25;G01N21/47;G01N21/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種高壓條件下的光譜測量裝置，包括上壓力盤(1)、下壓力盤(2)、調平螺絲(3)、壓力螺絲(4)、頂砧限位螺絲(5)、上支撐盤(6)、下支撐盤(7)、上頂砧(8)、下頂砧(9)、環形墊圈(10)、壓力媒介(11)、樣品(12)、限位螺桿(13)、光收集系統(14)和激光器(15)，xyz為三維空間坐標系，上頂砧(8)的底面向下，下頂砧(9)的底面向上，環形墊圈(10)位于上頂砧(8)的底面和下頂砧(9)的底面之間，環形墊圈(10)中具有壓力媒介(11)，樣品(12)位于壓力媒介(11)內，對樣品(12)施加高壓時，上頂砧(8)和下頂砧(9)相互靠近，并通過壓力媒介(11)將壓力施加到樣品(12)上，高壓范圍5GPa到30GPa，光收集系統(14)能夠收集的光對應的區域稱為光收集區域，

其特征是：上壓力盤(1)與下壓力盤(2)在豎直y方向同軸排列，上壓力盤(1)距中心為三厘米的圓周上具有三個均布的M5螺孔，上壓力盤(1)距中心為四厘米的圓周上具有三個均布的M4螺孔，每個所述M4螺孔的側面均具有限位螺桿(13)，下壓力盤(2)具有三個均布的M5螺孔、且與上壓力盤(1)的所述M5螺孔對應，下壓力盤(2)上面具有三個均布的圓錐形凹槽、且與上壓力盤(1)的所述M4螺孔對應，壓力螺絲(4)通過M5螺孔將下壓力盤(2)與上壓力盤(1)相連接，調平螺絲(3)的頂端為圓錐形，調平螺絲(3)通過上壓力盤(1)的M4螺孔、且頂端位于下壓力盤(2)的圓錐形凹槽內，在下壓力盤(2)的上表面距中心為二厘米的圓周上安裝有三個均布的頂砧限位螺絲(5)，上支撐盤(6)嵌套于上壓力盤(1)內并連接固定，光收集系統(14)位于上支撐盤(6)中心的正上方，下支撐盤(7)嵌套于下壓力盤(2)內，下支撐盤(7)能夠通過三個頂砧限位螺絲(5)來微調，能夠改變下支撐盤(7)與下壓力盤(2)之間在水平面內的相對位置，上頂砧(8)和下頂砧(9)均采用金剛石標準切工加工而成、且具有臺面(8-1)、冠部(8-2)、腰面(8-3)、亭部(8-4)和底面(8-5)，冠部斜切面與臺面(8-1)的夾角為40度，上支撐盤(6)的內側下部具有與水平方向呈40度的斜切面，上支撐盤(6)的內側斜切面與上頂砧(8)的冠部斜切面接觸，下支撐盤(7)的內側上部具有與水平方向呈40度的斜切面，下支撐盤(7)的內側斜切面與下頂砧(9)的冠部斜切面接觸，激光器(15)發射的激光能夠以法向入射上頂砧(8)冠部斜切面，并依次通過上頂砧(8)和壓力媒介(11)入射到樣品(12)。

2.根據權利要求1所述的一種高壓條件下的光譜測量裝置，其特征是：上壓力盤(1)和下壓力盤(2)均是外徑為十厘米的鋼制圓環形且具有彈性。

3.根據權利要求1所述的一種高壓條件下的光譜測量裝置，其特征是：壓力螺絲(4)為M5螺絲，調平螺絲(3)為M4螺絲。

4.根據權利要求1所述的一種高壓條件下的光譜測量裝置，其特征是：上支撐盤(6)和下支撐盤(7)均是外徑為三厘米的碳化硅圓環。