[實用新型]一種便于檢測派瑞林鍍膜工藝的檢測加工裝置有效
| 申請號: | 201822024577.2 | 申請日: | 2018-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN209481789U | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發明(設計)人: | 張衛興;張振興 | 申請(專利權)人: | 江蘇可潤光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/448 | 分類號: | C23C16/448;G01N21/64 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產權代理有限公司 31253 | 代理人: | 馮子玲 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 加熱環 加熱傳感器 檢測 本實用新型 真空沉積室 鍍膜工藝 加工裝置 加熱片 連接環 密封環 派瑞林 升華室 升華 料倉 化學氣相沉積 紫外線燈照射 冷卻控制器 溫度傳感器 熒光增白劑 加工產品 均勻沉積 上連接環 真空系統 加工件 裂解室 蒸發室 粉料 下端 直觀 觀察 | ||
本實用新型公開了一種便于檢測的派瑞林鍍膜工藝的檢測加工裝置,屬于化學氣相沉積技術領域,包括:蒸發室、裂解室、真空沉積室、真空系統、冷卻控制器以及管道,真空沉積室上部設置有升華杯,升華杯設置有料倉杯、加熱環和升華室,加熱環上設有溫度傳感器,料倉杯的下端設有密封環,密封環的一側設有加熱片,加熱片的底部設有下加熱傳感器,升華室上連接有連接環,連接環上連接有兩個前加熱環,兩個前加熱環上分別設有上加熱傳感器和中加熱傳感器,在其中一個前加熱環的一端設有上連接環。本實用新型通過將熒光增白劑粉料升華均勻沉積在加工件上,通過用紫外線燈照射來檢測,可以對加工產品的效果有了直觀的觀察。
技術領域
本實用新型涉及一種鍍膜工藝的檢測加工裝置,特別是涉及一種便于檢測派瑞林鍍膜工藝的檢測加工裝置,屬于化學氣相沉積技術領域。
背景技術
化學氣相沉積法是傳統的制備薄膜的技術,廣泛應用于半導體工業中多種材料的沉積,包括大范圍的絕緣材料、大多數金屬材料和金屬合金材料,其原理是利用氣態的先驅反應物,通過原子、分子間化學反應,使得氣態前驅體中的某些成分分解或者相互之間反應,而在基體上沉積形成薄膜。
現有的派瑞林鍍膜工藝為派瑞林材料在蒸發室加熱氣化后,在真空壓差的作用下經過裂解室向鍍膜室運動,并在裂解室內發生裂解反應,裂解后氣體經過管道進入鍍膜室后發生聚合反應形成防水、防腐膜層,但現有技術加工的鍍膜材料無法用肉眼確認鍍膜的包蓋類型,為了保證客戶在第一時間內對鍍膜加工后的產品可靠性、直觀的檢測加工后的效果,而實用新型此項工藝技術。
實用新型內容
本實用新型的主要目的是為了提供一種便于檢測派瑞林鍍膜工藝的檢測加工裝置,能夠解決現有技術加工的鍍膜材料不易檢測的問題,通過在真空沉積室上設有升華杯,將熒光增白劑粉料升華均勻沉積在加工件上,用紫外線燈可以清楚而直觀的進行檢測。
本實實用新型的目的可以通過采用如下技術方案達到:
一種便于檢測派瑞林鍍膜工藝的檢測加工裝置,包括:蒸發室、裂解室、真空沉積室、真空系統、冷卻控制器以及管道,所述蒸發室、裂解室、真空沉積室及真空系統依次通過管道連通,所述真空沉積室上部設置有升華杯,所述升華杯設置有料倉杯、加熱環和升華室,所述加熱環設置在所述升華室上,所述升華室設置在所述料倉杯上,所述加熱環上設有溫度傳感器,所述料倉杯的下端設有密封環,所述密封環的一側設有加熱片,所述加熱片的底部設有下加熱傳感器,所述升華室上連接有連接環,所述連接環上連接有兩個前加熱環,兩個所述前加熱環上分別設有上加熱傳感器和中加熱傳感器,在其中一個所述前加熱環的一端設有上連接環,所述料倉杯中可加入熒光增白劑粉料,通過將熒光增白劑粉料升華均勻沉積在加工件上,用紫外線燈照射后檢測。
優選的,所述料倉杯為存儲原料的容器;所述加熱片用于保證原料蒸發后不會下降冷卻,所述上連接環為連接所述真空沉積室的接口。
優選的,所述加熱環為粉體加熱裝置,用于能使粉體蒸發,兩個所述前加熱環用于確保原料在蒸發過程中不在管道內凝固。
優選的,所述升華杯通過所述連接環和真空沉積室連接。
優選的,所述升華杯為不銹鋼升華杯,所述升華杯可加熱到310-500℃之間。
優選的,所述密封環可以將遠離所述真空沉積室一端的所述升華杯密封。
優選的,所述加熱環可固定在所述升華杯上起到加熱的作用。
本實用新型的有益技術效果:按照實用新型提供的一種便于檢測派瑞林鍍膜工藝的檢測加工裝置,解決了現有技術加工的鍍膜材料不易檢測的問題,通過在真空沉積室上設有升華杯,將熒光增白劑粉料升華均勻沉積在加工件上,用紫外線燈可以清楚而直觀的進行檢測,該工藝簡單、實用、成本底,實用性強,可取代進口原材料。
附圖說明
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





