[實用新型]一種人造革單面亞光處理系統

有效

• 申請號: 201822019790.4
• 申請日: 2018-12-02
• 公開（公告）號: CN209292763U
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 邱學平
• 申請（專利權）人: 清遠市騰翔皮革有限公司
• 主分類號: D06N3/00
• 分類號: D06N3/00
• 代理公司: 廣州市科豐知識產權代理事務所(普通合伙) 44467
• 代理人: 龔元元

1.一種人造革單面亞光處理系統，包括用于涂布啞光涂層的涂布單元和用于烘干涂布后的人造革的烘干單元；其特征在于，還包括底座，所述的涂布單元和烘干單元固定在底座上，所述的烘干單元設置在涂布單元的上方，所述的底座的底部和地面之間存在供人造革通過的間隙；所述的底座的一側設有放料單元，所述的底座的另外一側設有用于暫存烘干后的人造革的暫存單元，所述的底座上設有位于涂布單元和暫存單元之間的第一支撐輥和第二支撐輥；所述的人造革經放料單元、間隙、第一支撐輥、第二支撐輥、涂布單元、烘干單元后進入到暫存單元內。

2.根據權利要求1所述的人造革單面亞光處理系統，其特征在于，所述的第二支撐輥設置在第一支撐輥的正上方。

3.根據權利要求1所述的人造革單面亞光處理系統，其特征在于，所述的涂布單元包括第三支撐輥、壓輥、涂布輥、加熱輥，所述的烘干單元包括加熱箱、設置在加熱箱上靠近放料單元一側的進料口、設置在加熱箱上靠近暫存單元一側的出料口，所述的壓輥設置在涂布輥的上方，所述的第三支撐輥設置在壓輥的斜上方，所述的加熱輥位于壓輥的一側，所述的第三支撐輥和加熱輥位于壓輥和第二支撐輥之間；所述的涂布輥的下方設有用于容置亞光涂料的助劑槽。

4.根據權利要求3所述的人造革單面亞光處理系統，其特征在于，所述的烘干單元的下方還設有位于進料口和壓輥之間的第四支撐輥。

5.根據權利要求3所述的人造革單面亞光處理系統，其特征在于，所述的暫存單元包括暫存槽、設置在暫存槽和出料口之間的第五支撐輥。

6.根據權利要求5所述的人造革單面亞光處理系統，其特征在于，所述的暫存槽為一上表面開放的槽體結構，垂直于暫存槽長度方向的剖面為半圓形。