[實用新型]加氫反應器

有效

• 申請號: 201821991484.0
• 申請日: 2018-11-29
• 公開（公告）號: CN209222076U
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發明（設計）人: 楊勇;宋瑞旭;唐加剛;王濤;吳鳳超;張聰利
• 申請（專利權）人: 內蒙古伊泰化工有限責任公司
• 主分類號: B01J8/04
• 分類號: B01J8/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.加氫反應器，其包括殼體，在所述殼體的頂部設有反應物入口，在所述殼體的底部設有產物出口，在所述反應物入口下方的所述殼體的內部設有頂部分配盤，在所述產物出口上方的所述殼體的內部設有篩網，在所述篩網上方設有底部瓷球層，其特征在于，在所述頂部分配盤和所述底部瓷球層之間的所述殼體的內部設有至少兩個催化劑層，在相鄰兩個催化劑層之間從上至下依次設有上瓷球層、催化劑支撐盤、冷氫分布管、冷氫管支撐板、中間分配盤和下瓷球層，所述頂部分配盤和所述中間分配盤上分別均布有泡罩，所述冷氫分布管的底部與所述冷氫管支撐板的頂部接觸；

在所述殼體的外壁上設有冷氫管進口，在所述冷氫管進口上設有入口法蘭，所述冷氫分布管的進氣端穿過所述冷氫管進口置于所述冷氫管進口的外部，所述冷氫分布管的進氣端通過螺紋連接有中間法蘭，在所述入口法蘭和所述中間法蘭之間設有墊片，所述殼體的內部的所述冷氫分布管呈環形且均布有出氣孔。

2.根據權利要求1所述的加氫反應器，其特征在于，所述上瓷球層包括至少兩個瓷球層，從上至下每個所述瓷球層的瓷球的直徑依次增加。

3.根據權利要求1或2所述的加氫反應器，其特征在于，所述下瓷球層包括至少兩個瓷球層，從上至下每個所述瓷球層的瓷球的直徑依次減小。

4.根據權利要求3所述的加氫反應器，其特征在于，在所述泡罩的底部設有分布器，所述分布器包括環形板，在所述環形板上沿周向設有通孔，在所述環形板的外邊緣均布有至少四個水平設置的連接桿，每個所述連接桿分別沿所述環形板的徑向設置，每個所述連接桿的端部分別與對應的所述中間分配盤或所述頂部分配盤固定連接。

5.根據權利要求4所述的加氫反應器，其特征在于，所述通孔與所述環形板的外邊緣連通。

6.根據權利要求1、2、4、5任意一項所述的加氫反應器，其特征在于，其還包括冷氫加入管，所述冷氫加入管出氣端設有出口法蘭，所述出口法蘭、所述中間法蘭和所述入口法蘭通過螺栓連接；在所述冷氫加入管上設有流量調節閥，在所述催化劑支撐盤上豎直設有熱電偶，在所述熱電偶與所述流量調節閥信號連接。

7.根據權利要求6所述的加氫反應器，其特征在于，所述底部瓷球層包括至少兩個瓷球層，從上至下每個所述瓷球層的瓷球的直徑依次增加。

8.根據權利要求7所述的加氫反應器，其特征在于，所述冷氫管支撐板包括兩塊圓板，在每塊所述圓板上分別設有至少兩個下料孔，兩個所述圓板上的所述下料孔的位置相互錯開。

9.根據權利要求8所述的加氫反應器，其特征在于，所述冷氫管進口的內壁與所述冷氫分布管的外壁之間填充有陶瓷纖維繩。