[實(shí)用新型]一種免疫層析檢測(cè)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821979582.2
• 申請(qǐng)日: 2018-11-29
• 公開（公告）號(hào): CN209231347U
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高躍明;陳維錕;王劍楠;杜民;陳建國(guó);姜海燕;黃林南
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福州大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N33/558
• 分類號(hào): G01N33/558;G01N21/84
• 代理公司: 福州元?jiǎng)?chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司 35100
• 代理人: 蔡學(xué)俊

本實(shí)用新型涉及一種免疫層析檢測(cè)裝置。包括主控單元、光學(xué)測(cè)量單元、背景采集單元；所述主控單元包括主控CPU及與該主控CPU連接的驅(qū)動(dòng)電路、顯示模塊，所述光學(xué)測(cè)量單元包括光學(xué)檢測(cè)裝置、與所述驅(qū)動(dòng)電路連接的傳動(dòng)裝置，所述背景采集單元包括與所述光學(xué)檢測(cè)裝置連接的背景信號(hào)輸入模塊、與所述背景信號(hào)輸入模塊連接的調(diào)理濾波模塊、與所述調(diào)理濾波模塊連接的調(diào)理放大模塊，所述調(diào)理放大模塊還與所述主控CPU連接。本實(shí)用新型提高了免疫層析檢測(cè)系統(tǒng)的檢測(cè)范圍和精度。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種免疫層析檢測(cè)裝置。

背景技術(shù)

專利（申請(qǐng)?zhí)枺?01810134327.6）提出一種干式免疫層析檢測(cè)儀及其檢測(cè)方法，其中包括熒光檢測(cè)機(jī)構(gòu)、運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、掃描機(jī)構(gòu)、判斷機(jī)構(gòu)、開關(guān)機(jī)構(gòu)、信息采集模塊以及主控模塊等。該設(shè)計(jì)通過(guò)軟件算法實(shí)現(xiàn)T、C線判斷及T/C面積比值，定量檢測(cè)樣本濃度。專利（申請(qǐng)?zhí)枺?01711404592.3）提出一種便攜式熒光免疫層析試條成像檢測(cè)系統(tǒng)，包括光學(xué)系統(tǒng)、數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng)和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。檢測(cè)系統(tǒng)對(duì)顯微鏡采集到的高清晰熒光試條圖像信息，通過(guò)圖像分割算法分割出試條圖像中的T線、C線和背景區(qū)域。專利（申請(qǐng)?zhí)枺?01610835153.7）提出一種基于熒光免疫層析技術(shù)的定量檢測(cè)計(jì)算方法，依次經(jīng)過(guò)LED光源照射、濾光片濾光處理、光電探測(cè)器檢測(cè)、電信號(hào)處理、AD轉(zhuǎn)換處理、濾波算法處理、基線擬合、尋峰處理、計(jì)算T/C面積比值、計(jì)算濃度的過(guò)程，從而通過(guò)計(jì)算的濃度結(jié)果進(jìn)行判斷。在背景選取中采用最小二乘擬合選定背景基線，定量檢測(cè)待測(cè)樣本濃度。

上述技術(shù)存在問(wèn)題或缺陷：

臨床上待測(cè)樣本在理化特性上存在不同程度的差異，導(dǎo)致免疫層析試條檢測(cè)區(qū)域背景基線不穩(wěn)定，影響檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。因此，準(zhǔn)確的選取背景基線是實(shí)現(xiàn)定量檢測(cè)的前提。現(xiàn)有免疫層析檢測(cè)系統(tǒng)中，背景基線選取方法如下：1、通過(guò)基線擬合選定背景基線；2、通過(guò)二階微分法判定特征曲線拐點(diǎn)，并將拐點(diǎn)對(duì)應(yīng)的基線值作為背景基線；3、通過(guò)免疫試條起始位置連續(xù)采集取平均，作為背景基線。前兩種方法為離線數(shù)據(jù)處理方法，需要依靠PC的運(yùn)算能力，難以在現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)設(shè)備上實(shí)現(xiàn)這些功能；最后一種方法只能削弱實(shí)際檢測(cè)中的偶然誤差，對(duì)于傳統(tǒng)基線選取方法本身存在的系統(tǒng)誤差則無(wú)能為力。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種免疫層析檢測(cè)裝置，提高了免疫層析檢測(cè)系統(tǒng)的檢測(cè)范圍和精度。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是：一種免疫層析檢測(cè)裝置，包括主控單元、光學(xué)測(cè)量單元、背景采集單元；所述主控單元包括主控CPU及與該主控CPU連接的驅(qū)動(dòng)電路、顯示模塊，所述光學(xué)測(cè)量單元包括光學(xué)檢測(cè)裝置、與所述驅(qū)動(dòng)電路連接的傳動(dòng)裝置，所述背景采集單元包括與所述光學(xué)檢測(cè)裝置連接的背景信號(hào)輸入模塊、與所述背景信號(hào)輸入模塊連接的調(diào)理濾波模塊、與所述調(diào)理濾波模塊連接的調(diào)理放大模塊，所述調(diào)理放大模塊還與所述主控CPU連接；所述光學(xué)檢測(cè)裝置包括光源、第一透鏡、二向色鏡、柱面鏡、濾光片、第二透鏡、光電傳感器，光源激發(fā)的光經(jīng)第一透鏡聚焦后被二向色鏡全反射，而后經(jīng)柱面鏡整形轉(zhuǎn)變?yōu)榫匦喂獍撸⒆饔糜谥糜谒鰝鲃?dòng)裝置上的待測(cè)免疫層析試條表面，待測(cè)免疫層析試條表面反射的光信號(hào)經(jīng)二向色鏡、濾光片，由第二透鏡聚焦到光電傳感器，轉(zhuǎn)換為電信號(hào)。

在本實(shí)用新型一實(shí)施例中，所述矩形光斑尺寸與待測(cè)免疫層析試條的顯色線尺寸相近。圖3顯示了本發(fā)明光學(xué)機(jī)構(gòu)照射試條檢測(cè)窗口的光斑示意圖。令光斑寬度為L(zhǎng)，檢測(cè)帶寬度為L(zhǎng)_T，控制帶寬度為L(zhǎng)_C，檢測(cè)帶與控制帶之間距離為L(zhǎng)_TC，設(shè)計(jì)光斑時(shí)，使其寬度L趨近于L_T與L_C，且遠(yuǎn)小于L_TC，即，合理的光斑形狀及大小，使光學(xué)機(jī)構(gòu)掃描試條時(shí)，檢測(cè)帶和控制帶的光信號(hào)不產(chǎn)生干擾且利于背景區(qū)域的劃分，提高檢測(cè)精度。

相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型具有以下有益效果：本實(shí)用新型提高了免疫層析檢測(cè)系統(tǒng)的檢測(cè)范圍和精度。

附圖說(shuō)明