[實用新型]一種研究高壓下樣品相變的裝置

有效

• 申請號: 201821978630.6
• 申請日: 2018-11-17
• 公開（公告）號: CN209264607U
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 張向平;方曉華
• 申請（專利權）人: 金華職業技術學院
• 主分類號: G01N25/04
• 分類號: G01N25/04;G01N25/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種研究高壓下樣品相變的裝置，包括激光器I(1)、分束器I(2)、反射鏡I(3)、反射鏡II(4)、藍寶石頂砧(5)、樣品(6)、棱鏡(7)、透鏡I(8)、激光器II(9)、消相差透鏡組(10)、光圈(11)、物鏡(12)、分束器II(13)、濾波器(14)、攝像機(15)、斬波器(16)、小孔光闌(17)、透鏡II(18)、濾光片組(19)和探測器(20)，激光器I(1)發射出的激光為加熱激光，激光器II(9)發射出的激光為成像激光，以及加熱激光的入射光路、成像激光的入射光路、樣品發出的熱輻射路徑和可見光光路，xyz為三維空間坐標系；其特征是：

藍寶石頂砧(5)包括上頂砧和下頂砧，樣品(6)位于所述上頂砧和下頂砧之間，樣品(6)是典型尺寸為直徑三毫米的圓形，所述上頂砧和下頂砧均透光且能夠對樣品(6)施加高壓，加熱激光的功率典型值為10到30瓦，激光器I(1)、分束器I(2)、反射鏡I(3)、反射鏡II(4)和藍寶石頂砧(5)組成加熱激光的入射光路，激光器I(1)發射出的激光能夠用于對樣品(6)加熱，激光器I(1)發射出的加熱激光被分束器I(2)分為能量相同的兩束，其中一束加熱激光經過反射鏡I(3)反射后通過上頂砧入射到樣品(6)的上表面、另一束加熱激光經過反射鏡II(4)反射后通過下頂砧入射到樣品(6)的下表面；激光器II(9)、透鏡I(8)、棱鏡(7)和上頂砧組成成像激光的入射光路，激光器II(9)發射出的激光能夠用于對樣品(6)成像，成像激光的功率典型值為五毫瓦，激光器II(9)發射出的成像激光經過透鏡I(8)后，在棱鏡(7)處發生偏向，并通過上頂砧垂直入射到樣品(6)的上表面；上頂砧、消相差透鏡組(10)、光圈(11)、物鏡(12)、分束器II(13)、斬波器(16)、小孔光闌(17)、透鏡II(18)、濾光片組(19)和探測器(20)組成樣品(6)發出的熱輻射路徑，上頂砧、消相差透鏡組(10)、光圈(11)、物鏡(12)、分束器II(13)、濾波器(14)和攝像機(15)組成樣品(6)發出的可見光光路，樣品(6)發出的光包括樣品的熱輻射和樣品表面反射的激光，樣品(6)發出的光依次經上頂砧、消相差透鏡組(10)、光圈(11)、物鏡(12)和分束器II(13)，其中波長大于760nm的部分以原方向通過分束器II(13)，繼而依次通過斬波器(16)、小孔光闌(17)、透鏡II(18)和濾光片組(19)后，進入探測器(20)，用于對樣品(6)進行熱輻射譜測量，能夠在探測器(20)中得到樣品(6)的熱輻射譜，波長小于或等于760nm的部分被分束器II(13)偏向后，通過濾波器(14)進入攝像機(15)；消相差透鏡組(10)由同軸排列的消相差透鏡I和消相差透鏡II組成，光從消相差透鏡I入射并從消相差透鏡II出射，消相差透鏡I的焦距為200mm，消相差透鏡II的焦距為25mm，光圈(11)位于消相差透鏡II之后，光圈(11)的直徑為4mm。