[實用新型]一種粗苯精制系統的溶劑再生裝置

有效

• 申請號: 201821976514.0
• 申請日: 2018-11-28
• 公開（公告）號: CN209475622U
• 公開（公告）日: 2019-10-11
• 發明（設計）人: 符世權;曹羽;劉慶新;蘇澤
• 申請（專利權）人: 云南大為恒遠化工有限公司
• 主分類號: B01D3/40
• 分類號: B01D3/40
• 代理公司: 曲靖科嵐專利代理事務所(特殊普通合伙) 53202
• 代理人: 戎加富

本實用新型公開了一種粗苯精制系統的溶劑再生裝置，包括再生蒸發器、再生槽和冷凝器，再生蒸發器呈盤管式結構設置在再生槽內，再生槽的上部設置有向上凸起的蒸出段，蒸出段的一側設置有熱貧溶劑入口，蒸出段頂部設置有再生溶劑出口，再生槽的底部連接有收集槽，收集槽的槽底設置有再熱器，收集槽的頂部與再生槽通過空氣冷卻器相連通；冷凝器的殼程設置有再生溶劑入口、再生溶劑冷卻出口、密封液入口和密封液出口，再生溶劑入口與再生溶劑出口相連，再生溶劑冷卻出口連接有溶劑槽，密封液入口同時與一級冷卻貧溶劑入口和新溶劑補充口連接，密封液出口與溶劑槽相連。本實用新型可以減少溶劑的消耗量，雜質清楚徹底，溶劑再生效果和純度得以提升。

技術領域

本實用新型涉及粗苯加氫精制生產技術領域，具體涉及一種粗苯精制系統的溶劑再生裝置。

背景技術

粗苯精制的目的就是要脫除粗苯中的烷烴、烯烴、含硫類化合物及含氮類化合物等非芳香烴物質，再經過精餾分離得到純苯、純甲苯、二甲苯等產品，目前在除雜的萃取蒸餾過程中普遍使用的溶劑是環丁砜，當然也有使用 N-甲酰嗎啉的，不管使用何種溶劑，溶劑在使用一定時間后必須進行再生。然而在N-甲酰嗎啉的再生過程中，水蒸氣汽提法由于會引入氯化物而使管道加劇腐蝕，顯然不能再繼續使用，干式減壓蒸餾法的使用勢在必行，但是現有的干式減壓蒸餾法存在貧溶劑中的各種雜質及微量重組分去除不徹底，嚴重影響了溶劑再生效果，貧溶劑質量劣質化速度加快，消耗量增多的問題；從而導致了萃取蒸餾操作的分離效率降低，甚至出現液液分層的現象。因此，研制開發一種能提升再生效果，減少溶劑消耗量的粗苯精制系統的溶劑再生裝置是客觀需要的。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種能提升再生效果，減少溶劑消耗量的粗苯精制系統的溶劑再生裝置。

本實用新型的目的是這樣實現的，本實用新型包括再生蒸發器、再生槽和冷凝器，再生蒸發器呈盤管式結構設置在再生槽內，再生槽的上部設置有向上凸起的蒸出段，蒸出段的一側設置有熱貧溶劑入口，蒸出段頂部設置有再生溶劑出口，再生槽的底部連接有收集槽，收集槽的槽底設置有再熱器，收集槽的頂部與再生槽的蒸出段一側通過空氣冷卻器相連通；所述冷凝器的殼程設置有再生溶劑入口、再生溶劑冷卻出口、密封液入口和密封液出口，再生溶劑入口與再生溶劑出口相連，再生溶劑冷卻出口通過泵連接有溶劑槽，密封液入口同時與一級冷卻貧溶劑入口和新溶劑補充口連接，密封液出口與溶劑槽相連。

進一步的，再生蒸發器對稱設置有兩個，且兩再生蒸發器的內盤管傾斜向下的安裝在再生槽內，兩再生蒸發器的內盤管上方分別傾斜向下的設置有第一導流板和第二導流板，第一導流板和第二導流板分別安裝在再生槽內壁上，第二導流板和第一導流板上加工的若干通孔；第二導流板與再生槽槽底的水平面間的夾角大于第一導流板與再生槽槽底的水平面的夾角，第一導流板位于第二導流板的上方；熱貧溶劑入口與再生槽之間設置有中間儲存罐，中間儲存罐下方設置有控制閥；溶劑槽上設置有透明窗口。

本實用新型在再生槽內對貧溶劑中的各種雜質及微量重組分進行去除時，再生蒸發器對貧溶劑提供的沸點溫度不用提高，雜質不會隨著溶劑一起被蒸出，以便能徹底的清除雜質，當雜質被間斷送入收集槽后，通過收集槽槽底的再熱器可以再次蒸出雜質內含有的貧溶劑，貧溶劑經過冷卻后再次回流到再生槽，回流的貧溶劑再次經過蒸出提純才會被送往萃取蒸餾段，如此可以減少溶劑的消耗量，使用整個裝置后，雜質清除徹底，溶劑再生效果和純度得以提升，對萃取蒸餾操作的分離效率不易產生影響，具有良好的經濟效益。

附圖說明

圖1為本實用新型整體結構示意圖。

1-再生蒸發器，2-再生槽，21-熱貧溶劑入口，22-再生溶劑出口，23-第一導流板，24-空氣冷卻器，25-第二導流板，26-收集槽，27-再熱器，28-聚合物出口，3-冷凝器，31-再生溶劑入口，32-再生溶劑冷卻出口，33-密封液入口，331-一級冷卻貧溶劑入口，332-新溶劑補充口，34-密封液出口，35-冷卻水入口，36-冷卻水出口，4-溶劑槽，5-中間儲存罐。