[實用新型]一種缺陷檢測設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821972030.9 | 申請日: | 2018-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN209280585U | 公開(公告)日: | 2019-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉紅婕;王鳳蕊;黃進(jìn);周曉燕;葉鑫;黎維華;孫來喜;石兆華;夏漢定;鄧清華;邵婷 | 申請(專利權(quán))人: | 中國工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88;G01N21/64;G01N21/47;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京眾達(dá)德權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570 | 代理人: | 劉杰 |
| 地址: | 621000*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 缺陷檢測設(shè)備 熒光圖像信息 本實用新型 散射光圖像 亞表面缺陷 待測樣品 探測裝置 無損檢測 散射光 探測光 信號光 熒光 入射 成像 表面缺陷信息 激光發(fā)射裝置 輻照 表面缺陷 測試效率 分光裝置 缺陷檢測 采集 測試 節(jié)約 分析 | ||
1.一種缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,包括:激光發(fā)射裝置、分光裝置、第一探測裝置以及第二探測裝置,
所述激光發(fā)射裝置發(fā)出的探測光輻照到待測樣品上,形成信號光,所述信號光包括所述探測光在所述待測樣品的表面缺陷處發(fā)生散射而形成的散射光以及所述待測樣品的表面缺陷和/或亞表面缺陷在所述探測光的激發(fā)下產(chǎn)生的熒光;
所述信號光入射到所述分光裝置,經(jīng)所述分光裝置將所述信號光中包含的所述熒光和所述散射光分離,使得分離出的所述熒光入射到所述第一探測裝置成像,分離出的所述熒光所述散射光入射到所述第二探測裝置成像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述分光裝置包括物鏡和分光器件,所述物鏡的光軸與所述待測樣品的反射光傳播路徑呈預(yù)設(shè)角度,且所述預(yù)設(shè)角度大于0,
所述信號光進(jìn)入所述物鏡,由所述物鏡出射后入射到所述分光器件,由所述分光器件將所述信號光中包含的所述熒光和所述散射光分離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述物鏡的光軸垂直于所述待測樣品的待測表面且穿過所述待測樣品上的探測光輻照區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,還包括樣品臺,用于放置所述待測樣品并調(diào)節(jié)所述待測樣品的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述樣品臺為三維電動移動平臺。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,還包括高通濾波器,所述高通濾波器設(shè)置于所述分光裝置與所述第一探測裝置之間的熒光傳輸路徑中,所述高通濾波器用于濾除所述探測光對應(yīng)的散射光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,還包括第一激光陷阱和第二激光陷阱,所述第一激光陷阱設(shè)置于所述待測樣品的反射光傳播路徑上,所述第二激光陷阱設(shè)置于所述待測樣品的透射光傳播路徑上,用于吸收殘余的探測光。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,還包括用于輔助所述第一探測裝置和所述第二探測裝置采集所述待測樣品的明場圖像的照明光源。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述激光發(fā)射裝置包括:激光器和光束控制模塊,所述激光器發(fā)出的探測光經(jīng)所述光束控制模塊后入射到所述待測樣品上,其中,所述光束控制模塊用于調(diào)節(jié)所述探測光在所述待測樣品上的輻照區(qū)域的形狀和尺寸。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述激光發(fā)射裝置還包括反射鏡,由所述光束控制模塊出射的探測光經(jīng)所述反射鏡反射后入射到所述待測樣品上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國工程物理研究院激光聚變研究中心,未經(jīng)中國工程物理研究院激光聚變研究中心許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821972030.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





