[實(shí)用新型]一種新型太陽能硅片制絨裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821952570.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209071289U | 公開(公告)日: | 2019-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 譚鑫;張海;麥巍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 錦州華昌光伏科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/673 | 分類號(hào): | H01L21/673;H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 沈陽鼎恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 21245 | 代理人: | 劉陽 |
| 地址: | 121000 遼寧省錦州*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 殼體 太陽能硅片 新型太陽能 硅片制絨 沖洗槽 制絨槽 噴頭 本實(shí)用新型 傳送帶 承載裝置 出水噴頭 均勻設(shè)置 儲(chǔ)水槽 腐蝕液 制絨 儲(chǔ)液槽 沖洗 清洗 承載 體內(nèi) 貫穿 | ||
本實(shí)用新型提供了一種新型太陽能硅片制絨裝置,該新型太陽能硅片制絨裝置包括:殼體,以及貫穿所述殼體的傳送帶;所述傳送帶上設(shè)置有用于承載太陽能硅片的承載裝置;所述殼體內(nèi)分為制絨槽和沖洗槽;所述制絨槽的下方設(shè)置有儲(chǔ)液槽,所述殼體均勻設(shè)置有多個(gè)腐蝕液噴頭;所述沖洗槽的下方設(shè)置有儲(chǔ)水槽,所述殼體均勻設(shè)置有多個(gè)出水噴頭。本實(shí)用新型的有益效果是:通過設(shè)置的承載裝置,可以達(dá)到放置太陽能硅片的目的;通過設(shè)置的制絨槽和腐蝕液噴頭,可以達(dá)到對(duì)太陽能硅片的表面進(jìn)行制絨的目的;通過設(shè)置的沖洗槽、儲(chǔ)水槽和出水噴頭,可以達(dá)到對(duì)制絨后的太陽能硅片進(jìn)行沖洗的目的;通過設(shè)置的殼體,可以達(dá)到將制絨和清洗兩道工序結(jié)合在一起的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及到太陽能電池技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及到一種新型太陽能硅片制絨裝置。
背景技術(shù)
隨著太陽能電池生產(chǎn)技術(shù)的不斷提升,對(duì)于太陽能電池產(chǎn)品的質(zhì)量以及成本提出了新的要求。制絨工藝是太陽能電池整個(gè)工藝生產(chǎn)線中最為重要的一環(huán),其目的是為了去除切割后硅片的表面損傷層,同時(shí)通過化學(xué)腐蝕的方法在硅片表面進(jìn)行織構(gòu)化處理,形成良好的陷光效應(yīng),降低硅片表面發(fā)射率。具體方法是利用氫氧化鈉稀釋液、乙二胺和磷苯二酚水、乙醇胺水溶等化學(xué)腐蝕劑對(duì)硅片表面進(jìn)行絨面處理,制絨反應(yīng)在制絨槽內(nèi)進(jìn)行,在反應(yīng)的過程中需要及時(shí)向制絨液中補(bǔ)充化學(xué)品。目前采用的制絨槽大都由槽體和加熱管組成,加熱管位于槽體底部,制絨過程中產(chǎn)生的硅酸鈉隨著溶液的熱對(duì)流而散布于溶液中,影響了制絨效果。另外,制絨槽采用的局部加熱方式很難使腐蝕液滿足制絨均勻的溫度要求,造成制絨質(zhì)量不穩(wěn)定,不利于熱量擴(kuò)散。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供了一種新型太陽能硅片制絨裝置。
解決了現(xiàn)有技術(shù)中制絨效果不好的問題;同時(shí)解決了現(xiàn)有技術(shù)中需要另設(shè)一道工序?qū)μ柲芄杵M(jìn)行沖洗的問題。
本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
本實(shí)用新型提供了一種新型太陽能硅片制絨裝置,該新型太陽能硅片制絨裝置包括:殼體,以及貫穿所述殼體的傳送帶;
所述傳送帶上設(shè)置有用于承載太陽能硅片的承載裝置;所述承載裝置包括底座,所述底座的上表面的兩端分別設(shè)置有支撐桿,每根所述支撐桿的頂端連接有固定塊,兩個(gè)所述固定塊的相對(duì)一側(cè)分別設(shè)置有用于固定太陽能硅片的第一插槽,所述底座上設(shè)置有用于固定太陽能硅片的第二插槽;
所述殼體內(nèi)設(shè)置有豎板,所述豎板將所述殼體內(nèi)部分為制絨槽和沖洗槽;所述制絨槽的下方設(shè)置有用于儲(chǔ)存腐蝕液的儲(chǔ)液槽,所述殼體對(duì)應(yīng)所述制絨槽的位置的相對(duì)兩側(cè)板上分別均勻設(shè)置有多個(gè)腐蝕液噴頭,每個(gè)所述腐蝕液噴頭連接有分液管,多個(gè)所述分液管連接有主液管,所述儲(chǔ)液槽與所述主液管通過輸液管相連通,所述儲(chǔ)液槽內(nèi)還設(shè)置有加熱裝置;所述沖洗槽的下方設(shè)置有儲(chǔ)水槽,所述殼體對(duì)應(yīng)所述沖洗槽的位置的相對(duì)兩側(cè)板上分別均勻設(shè)置有多個(gè)出水噴頭,每個(gè)出水噴頭連接有分水管,多個(gè)所述分水管連接有主水管,所述主水管與外部水源相連通。
優(yōu)選的,所述殼體的兩端分別開設(shè)有進(jìn)料口和出料口,所述豎板上開設(shè)有通過太陽能硅片的通口,所述傳送帶上均勻設(shè)置有多個(gè)用于將腐蝕液和清水漏下的漏孔。
優(yōu)選的,所述儲(chǔ)液槽內(nèi)設(shè)置有攪拌電機(jī),所述攪拌電機(jī)的輸出軸上設(shè)置有攪拌槳。
優(yōu)選的,所述加熱裝置包括加熱板、以及用于控制所述加熱板的溫控開關(guān)。
優(yōu)選的,所述輸液管上設(shè)置有水泵。
優(yōu)選的,所述儲(chǔ)水槽上開設(shè)有出水口,所述出水口處連接有出水管,所述出水管貫穿所述殼體的側(cè)壁,所述出水管上設(shè)置有電磁閥,所述儲(chǔ)水槽內(nèi)還設(shè)置有液位傳感器以及用于控制所述電磁閥的控制開關(guān)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





