[實用新型]一種大氣壓低溫等離子體片狀薄膜處理設備有效
| 申請號: | 201821950968.0 | 申請日: | 2018-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN209289790U | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發明(設計)人: | 周玥 | 申請(專利權)人: | 南京珀斯佩特電子科技有限公司 |
| 主分類號: | B29C71/04 | 分類號: | B29C71/04;B29L7/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 210000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導桿 處理平臺 低溫等離子體 絲桿 本實用新型 處理設備 導桿支架 片狀薄膜 表面改性技術 等離子體處理 電機連接 活性分子 均勻性好 開放空間 原始狀態 左右平移 排氣口 放電 內框 支撐 電機 封閉 分割 | ||
1.一種大氣壓低溫等離子體片狀薄膜處理設備,包括電極(4)和處理平臺(1),所述的處理平臺(1)位于電極(4)的下方,其特征在于:所述的電極(4)設置在放電部分(23)內,還包括機架(6),所述的機架(6)被放電部分(23)分割成左右兩部分,所述的右部分為封閉的空間,左部分為開放空間,所述的處理平臺(1)原始狀態為在左部分,所述處理平臺(1)下方的一側設有第一導桿(15),下方另一側設有第二導桿(21),第一導桿(15)被第一導桿支架(16)支撐,第二導桿(21)被第二導桿支架(22)支撐,所述的處理平臺(1)的下方,第一導桿(15)和第二導桿(21)的中間位置設有絲桿(3),所述的第一導桿(15)、第二導桿(21)、絲桿(3)長度相等,都是一半在左部分,一半在右部分,所述的絲桿(3)帶動處理平臺(1)左右平移,所述的絲桿(3)和電機(2)連接,所述的電機(2)設置在右部分,所述的右部分的右側內框設有排氣口(5)。
2.如權利要求1所述的大氣壓低溫等離子體片狀薄膜處理設備,其特征在于:所述的電極(4)被第一固定板(18)固定,電極(4)上方設有第二固定板(19),所述的第二固定板(19)上左右兩端設置有升降螺紋,所述的升降螺紋一端和第二固定板(19)連接,另一端和放電部分(23)的頂部連接,所述的升降螺紋通過調節旋鈕(12)來旋轉調節高低,所述的調節旋鈕(12)從放電部分(23)中伸出,所述的第一固定板(18)兩側設有支撐板(20)。
3.如權利要求2所述的大氣壓低溫等離子體片狀薄膜處理設備,其特征在于:所述的第二固定板(19)在兩個升降螺紋之間設有兩個導正桿(13),所述的導正桿(13)一端和第二固定板(19)連接,另一端和放電部分(23)的頂部連接。
4.如權利要求1-3任一權利要求所述的大氣壓低溫等離子體片狀薄膜處理設備,其特征在于:所述的右部分頂端設置有透明的維護觀察板(9),所述的維護觀察板(9)能夠打開。
5.如權利要求1-3任一權利要求所述的大氣壓低溫等離子體片狀薄膜處理設備,其特征在于:所述的機架內部設有內置電源(11),所述的內置電源(11)通過高壓接線端子(14)和電極連接。
6.如權利要求1-3任一權利要求所述的大氣壓低溫等離子體片狀薄膜處理設備,其特征在于:所述的左部分設有觸摸顯示屏(7),所述的觸摸顯示屏上設置有控制按鈕(8)。
7.如權利要求1-3任一權利要求所述的大氣壓低溫等離子體片狀薄膜處理設備,其特征在于:所述的機架(6)外部還設有電源開關(10)。
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