[實用新型]一種基于曝光機框架高重復機械精度的定位裝置有效
| 申請號： | 201821921104.6 | 申請日： | 2018-11-21 |
| 公開（公告）號： | CN209265174U | 公開（公告）日： | 2019-08-16 |
| 發明（設計）人： | 詹澤軍;柯華廉 | 申請（專利權）人： | 東莞市多普光電設備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙) 11548 | 代理人： | 李靜 |
| 地址： | 523000 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 上框架 定位軸承 定位座 本實用新型 定位裝置 定位組件 定位槽 定位塊 高重復 曝光機 對位精準度 插套配合 垂直設置 鉸接配合 位置定位 定位銷 偏移量 上下層 下框架 底片 豎直 相切 配合 保證 | ||
1.一種基于曝光機框架高重復機械精度的定位裝置，包括鉸接配合的下框架（1）和上框架（2），其特征在于，所述的上框架（2）的左右側和后側均設置有第一定位組件（3），所述的第一定位組件（3）包括設置在下框架（1）上的T卡定位座（30），所述的T卡定位座（30）的中心開設有定位槽，所述的T卡定位座（30）上設置有第一定位塊（31），所述的第一定位塊（31）上設置通過第一定位銷（33）安裝有兩個相對的第一定位軸承（32），所述的上框架（2）上安裝有T型定位塊（34），所述的T型定位塊（34）的豎直部分與定位槽插套配合并與第一定位軸承（32）相切配合，且上框架左右側和上框架后側的第一定位軸承（32）垂直設置。
2.根據權利要求1所述的一種基于曝光機框架高重復機械精度的定位裝置，其特征在于，所述的上框架（2）的左右側還設置有第二定位組件（4），所述的第二定位組件（4）包括設置在下框架（1）上的第二定位塊（40），所述的第二定位塊（40）上通過第二定位銷（42）安裝有第二定位軸承（41），所述的第二定位軸承（41）與上框架（2）的側面平行，所述的上框架（2）的側面安裝有直角定位塊（43），所述的直角定位塊（43）的豎直部分與第二定位軸承（41）相切配合。
3.根據權利要求2所述的一種基于曝光機框架高重復機械精度的定位裝置，其特征在于，所述的第一定位組件（3）和第二定位組件（4）均關于上框架（2）左右對稱設置。
4.根據權利要求1所述的一種基于曝光機框架高重復機械精度的定位裝置，其特征在于，兩個相對的第一定位軸承（32）可延與第一定位軸承的軸線垂直的方向進行位置調節。
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