[實(shí)用新型]一種入射電磁波的增透裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821906918.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209014750U | 公開(公告)日: | 2019-06-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁華偉;李佳奇;李玲;張敏;蘇紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02B1/118 | 分類號(hào): | G02B1/118;G02B5/18;H01Q15/02 |
| 代理公司: | 深圳市恒申知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44312 | 代理人: | 袁文英 |
| 地址: | 518060 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬光柵 電磁波 基底介質(zhì) 增透裝置 入射 條形金屬 透射率 反射 本實(shí)用新型 等間距排列 可調(diào)節(jié) 透過率 投射 減小 平行 便利 應(yīng)用 | ||
1.一種入射電磁波的增透裝置,其特征在于,包括基底介質(zhì)和用于改變電磁波入射界面的反射、投射系數(shù)大小和相位的金屬光柵,所述金屬光柵包括若干個(gè)相互平行的條形金屬,若干個(gè)所述條形金屬沿所述基底介質(zhì)的寬度方向依次等間距排列在所述基底介質(zhì)的一側(cè),電磁波從所述金屬光柵所在的一側(cè)入射,并依次透過所述金屬光柵和基底介質(zhì)。
2.如權(quán)利要求1所述的入射電磁波的增透裝置,其特征在于,所述條形金屬的寬度為x,相鄰兩個(gè)條形金屬之間的中心距為所述金屬光柵的周期y,其中y-x≥0.1mm。
3.如權(quán)利要求1所述的入射電磁波的增透裝置,其特征在于,所述條形金屬呈長(zhǎng)方體形狀。
4.如權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的入射電磁波的增透裝置,其特征在于,所述基底介質(zhì)的材料為硅、聚乙烯或石英中的任意一種,所述金屬光柵的材料為金、銀、銅或鋁中的任意一種。
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