[實(shí)用新型]全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821905660.4 | 申請日： | 2018-11-19 |
| 公開（公告）號： | CN209481577U | 公開（公告）日： | 2019-10-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李位位;張晉玲;張建勝 | 申請（專利權(quán)）人： | 清華大學(xué);清華大學(xué)山西清潔能源研究院 |
| 主分類號： | C10J3/48 | 分類號： | C10J3/48;C10J3/72;C10J3/86 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 趙天月 |
| 地址： | 10008*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 廢鍋 出渣口 氣化室 氣化系統(tǒng) 多噴嘴 水冷壁 主燒嘴 干粉 輻射 粗合成氣出口 本實(shí)用新型 廢鍋流程 工藝燒嘴 殼體頂壁 排渣池 氣化爐 水冷屏 對流 收縮 周向均勻分布 能量利用率 上部側(cè)壁 排渣口 氣化腔 殼體 煤粉 鄰近 體內(nèi) | ||
1.一種全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，包括：
氣化爐，所述氣化爐包括：
殼體，所述殼體內(nèi)形成氣化室，所述氣化室內(nèi)設(shè)置有第一水冷壁，所述氣化室的底部收縮形成氣化室出渣口；
一個主燒嘴，所述主燒嘴設(shè)置在所述殼體頂壁的中心位置，所述主燒嘴適于向所述氣化室噴射干粉煤、氧氣和蒸汽；
至少兩個工藝燒嘴，所述工藝燒嘴位于所述殼體頂壁上且鄰近所述主燒嘴設(shè)置，所述工藝燒嘴適于向所述氣化室燒射干煤粉、氧氣和蒸汽；
輻射廢鍋，所述輻射廢鍋與所述氣化室出渣口相連，所述輻射廢鍋內(nèi)設(shè)置有第二水冷壁和多個水冷屏，所述多個水冷屏沿周向均勻分布且分別通過鰭片與所述第二水冷壁相連，所述輻射廢鍋的底部收縮形成廢鍋出渣口；
排渣池，所述排渣池與所述廢鍋出渣口相連，所述排渣池的上部側(cè)壁具有粗合成氣出口，底部具有排渣口；
對流廢鍋，所述對流廢鍋與所述粗合成氣出口相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，所述主燒嘴內(nèi)設(shè)置有點(diǎn)火棒，具有點(diǎn)火功能。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，至少兩個所述工藝燒嘴以所述主燒嘴為中心且在周向上均勻分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，所述工藝燒嘴與所述主燒嘴呈10-45度夾角設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，所述多個水冷屏包括間隔分布的多個長水冷屏和多個短水冷屏。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，所述多個長水冷屏和所述多個短水冷屏沿周向上交叉間隔分布。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，每相鄰兩個所述長水冷屏之間布置1-2個所述短水冷屏。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，所述對流廢鍋與所述粗合成氣出口通過外面包圍水冷管的管道相連通。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的全廢鍋流程多噴嘴干粉氣化系統(tǒng)，其特征在于，所述對流廢鍋內(nèi)設(shè)置有多組蛇形水冷管。
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