[實用新型]一種用于手機(jī)無線充電的導(dǎo)磁散熱片

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821902344.1
• 申請日: 2018-11-19
• 公開（公告）號: CN209657934U
• 公開（公告）日: 2019-11-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王群;金鑫;唐章宏;李永卿
• 申請（專利權(quán)）人: 北京麥思通科技有限公司
• 主分類號: H01F7/00
• 分類號: H01F7/00;H05K9/00;H05K7/20
• 代理公司: 11569 北京高沃律師事務(wù)所
• 代理人: 張海青<國際申請>=<國際公布>=<進(jìn)入

1.一種用于手機(jī)無線充電的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，包括：熱輻射層、金屬軟磁層以及導(dǎo)熱層；

所述導(dǎo)熱層與所述熱輻射層之間設(shè)有所述金屬軟磁層；所述金屬軟磁層的上表面緊貼于所述熱輻射層的下表面；所述金屬軟磁層的下表面緊貼于所述導(dǎo)熱層的上表面；所述導(dǎo)熱層的下表面與充電電池相貼合；所述金屬軟磁層上設(shè)有氣隙結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，所述氣隙結(jié)構(gòu)具體包括：多道氣隙；多道所述氣隙構(gòu)成條形氣隙結(jié)構(gòu)；相鄰的兩道所述氣隙之間的間距為0.5-5mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，所述氣隙結(jié)構(gòu)具體包括：多道氣隙；多道所述氣隙構(gòu)成井字形氣隙結(jié)構(gòu)；相鄰的兩道所述氣隙之間的間距為0.5-5mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，所述氣隙結(jié)構(gòu)具體包括：多道氣隙；多道所述氣隙構(gòu)成發(fā)射形氣隙結(jié)構(gòu)；相鄰的兩道所述氣隙之間的夾角為5-90°。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，所述熱輻射層為導(dǎo)熱石墨片、高發(fā)射率涂層或高發(fā)射率薄膜；

所述高發(fā)射率涂層由氧化鎂、氧化銅、氧化鎳、三氧化二鈷、二氧化錳、碳化硅、二氧化硅以及三氧化二鐵的一種或多種復(fù)合而成；

所述高發(fā)射率薄膜由氧化鎂、氧化銅、氧化鎳或二氧化硅制成。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，所述石墨片與所述金屬軟磁薄片以貼合方式復(fù)合；

所述高發(fā)射率涂層與所述金屬軟磁薄片以涂覆方式復(fù)合；

所述高發(fā)射率薄膜與所述金屬軟磁薄片以濺射沉積或化學(xué)沉積方式復(fù)合。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，所述高發(fā)射率涂層的厚度為100nm-0.3mm，所述高發(fā)射率薄膜的厚度為50nm-0.2mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，所述金屬軟磁薄片為鐵鈷軟磁合金薄片、鐵鎳軟磁合金薄片或鐵硅鋁軟磁合金薄片。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，所述導(dǎo)熱層為粘性導(dǎo)熱硅膠或?qū)峁柚凰鰧?dǎo)熱硅膠或?qū)峁柚暮穸葹?.02-2mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)磁散熱片，其特征在于，金屬軟磁薄片厚度為0.01-0.3mm。