[實(shí)用新型]石墨烯薄膜直接轉(zhuǎn)移裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821895378.2
• 申請(qǐng)日: 2018-11-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209052405U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 侯寶森;丘輝;曾鳴
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福建閩烯科技有限公司
• 主分類號(hào): C01B32/194
• 分類號(hào): C01B32/194
• 代理公司: 成都正華專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51229
• 代理人: 李蕊;郭艷艷

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種石墨烯薄膜直接轉(zhuǎn)移裝置，屬于石墨烯技術(shù)領(lǐng)域。該石墨烯薄膜直接轉(zhuǎn)移裝置包括用于容納刻蝕液的容器、用于密封金屬基底與容器接觸面的密封件和用于夾持目標(biāo)基底與容器的彈簧夾；容器上設(shè)置有供彈簧夾一端夾持的被夾持部；容器的壁上設(shè)置有供刻蝕液進(jìn)出的通道；容器連接有施壓裝置。應(yīng)用本裝置轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜，不易導(dǎo)致石墨烯薄膜產(chǎn)生破損或裂紋。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及石墨烯技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種石墨烯薄膜直接轉(zhuǎn)移裝置。

背景技術(shù)

石墨烯薄膜因其具有優(yōu)異的導(dǎo)電、導(dǎo)熱、機(jī)械強(qiáng)度大、透明、柔性等性能。目前在石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管、傳感器、柔性觸摸屏、導(dǎo)熱膜、過(guò)濾膜、散熱器件等多個(gè)交叉領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。目前制備石墨烯薄膜的主要技術(shù)是通過(guò)高溫在金屬基底上化學(xué)氣相沉積生長(zhǎng)石墨烯，在應(yīng)用時(shí)將石墨烯轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基底上，轉(zhuǎn)移過(guò)程或者方法會(huì)直接影響到石墨烯的本征性能。

目前轉(zhuǎn)移的方法主要分為輔助轉(zhuǎn)移和直接轉(zhuǎn)移法。PMMA輔助轉(zhuǎn)移法是實(shí)驗(yàn)室主要采用的方法，但該方法轉(zhuǎn)移的石墨烯常有裂紋、褶皺等問(wèn)題，且PMMA常有殘留，會(huì)嚴(yán)重影響石墨烯的電學(xué)性能，且受限于旋涂技術(shù)不能大規(guī)模轉(zhuǎn)移。而直接轉(zhuǎn)移將會(huì)避免聚合物的殘留，提高石墨烯的質(zhì)量。直接轉(zhuǎn)移法包括熱層壓法和靜電吸附法，其中，熱層壓法是通過(guò)加熱與輥層壓同時(shí)進(jìn)行的方式來(lái)增加石墨烯與目標(biāo)基底的結(jié)合力，但該方法只適用于柔性的基底而對(duì)多孔的基底轉(zhuǎn)移后石墨烯膜易破損；靜電吸附法是在低壓的環(huán)境下，通過(guò)適時(shí)的加熱，同時(shí)對(duì)基體整體加機(jī)械壓力使靜電力貫穿基體，而后再直接撕下銅箔，但該法需要在低壓下進(jìn)行，大規(guī)模轉(zhuǎn)移會(huì)受限于設(shè)備，目前在大氣環(huán)境下并不一定能重現(xiàn)。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的上述不足，本實(shí)用新型旨在提供一種不易導(dǎo)致石墨烯薄膜產(chǎn)生破損或裂紋的石墨烯薄膜直接轉(zhuǎn)移裝置。

為了達(dá)到上述發(fā)明創(chuàng)造的目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：

提供一種石墨烯薄膜直接轉(zhuǎn)移裝置，其包括用于容納刻蝕液的容器、用于密封金屬基底與容器接觸面的密封件和用于夾持目標(biāo)基底與容器的彈簧夾；容器上設(shè)置有供彈簧夾一端夾持的被夾持部；容器的壁上設(shè)置有供刻蝕液進(jìn)出的通道；容器連接有施壓裝置。

進(jìn)一步地，密封件包括設(shè)置在容器的開(kāi)口邊沿處的第一密封圈。

進(jìn)一步地，密封件包括第二密封圈和設(shè)置在容器的開(kāi)口邊沿處的凹槽，凹槽與第二密封圈配合。

進(jìn)一步地，容器的材質(zhì)為不銹鋼。

進(jìn)一步地，彈簧夾包括左彈簧夾和右彈簧夾。

進(jìn)一步地，還包括用于放置目標(biāo)基底的具有平整面的剛性襯底，彈簧夾的另一端用于夾持剛性襯底。

本實(shí)用新型的有益效果為：將金屬基底上生成的石墨烯薄膜直接與目標(biāo)基底接觸，并利用刻蝕液刻蝕金屬基底。同時(shí)利用施壓裝置對(duì)刻蝕液加壓，使得刻蝕液受到的壓力大于一個(gè)大氣壓，增加石墨烯薄膜與目標(biāo)基底之間的結(jié)合力，待金屬刻蝕完成后，便完成了石墨烯薄膜的轉(zhuǎn)移。過(guò)程中，不易導(dǎo)致石墨烯薄膜產(chǎn)生破損或裂紋，且實(shí)現(xiàn)了石墨烯薄膜轉(zhuǎn)移的規(guī)模化。

附圖說(shuō)明

圖1為具體實(shí)施例中彈簧夾夾持后的石墨烯薄膜直接轉(zhuǎn)移裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中，1、施壓裝置；2、容器；3、第一密封圈；4、彈簧夾；5、目標(biāo)基底；6、待轉(zhuǎn)移的石墨烯薄膜；7、金屬基底。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式做詳細(xì)說(shuō)明，以便于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員理解本實(shí)用新型。但應(yīng)該清楚，下文所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部實(shí)施例。在不脫離所附的權(quán)利要求限定和確定的本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出任何創(chuàng)造性勞動(dòng)所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。