[實用新型]一種PVD真空電弧鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201821873812.7
• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN209194040U
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發明（設計）人: 李啟炎
• 申請（專利權）人: 杭州云度新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 杭州永繹專利代理事務所(普通合伙) 33317
• 代理人: 許傳秀

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，且公開了一種PVD真空電弧鍍膜裝置，包括箱體，所述箱體底部的兩側均固定安裝有支撐腿，所述箱體內腔底側的中部固定安裝有電動機，所述電動機的輸出軸上固定連接有圓軸，所述圓軸的頂部固定安裝有水平板，所述水平板頂部的一側固定安裝有支撐板，所述支撐板的內部螺紋套裝有螺栓，所述螺栓的一側固定安裝有固定板，所述箱體內腔的一側固定安裝有固定箱。該PVD真空電弧鍍膜裝置，通過卡槽和卡扣的配合使用，能夠使噴頭可以在套環的一側旋轉，通過套環、噴頭、圓孔和把手之間的配合設置，能夠有效調節原料噴出量，達到了控制鍍膜量的效果，解決了不同待鍍膜件的鍍膜量不同的問題。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，具體為一種PVD真空電弧鍍膜裝置。

背景技術

PVD真空鍍膜設備的工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基材上，它具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附著力強、繞性好、可鍍材料廣泛等優點。

鍍膜設備在鍍膜過程中，將待鍍膜件的表面均勻鍍膜，需要旋轉待鍍膜件，使每個面充分鍍膜，不同的待鍍膜件所需的鍍膜量不同，需要可以調節鍍膜量的鍍膜設備，為此我們提出一種PVD真空電弧鍍膜裝置。

實用新型內容

針對現有技術的不足，本實用新型提供了一種PVD真空電弧鍍膜裝置，具備待鍍膜件每個面充分鍍膜，可以調節鍍膜量的優點，解決了鍍膜過程需要將待鍍膜件換面，不能定量鍍膜，鍍膜不夠均勻的問題。

本實用新型提供如下技術方案：一種PVD真空電弧鍍膜裝置，包括箱體，所述箱體底部的兩側均固定安裝有支撐腿，所述箱體內腔底側的中部固定固定安裝有電動機，所述電動機的輸出軸上固定連接有圓軸，所述圓軸的頂部固定安裝有水平板，所述水平板頂部的一側固定安裝有支撐板，所述支撐板的內部螺紋套裝有螺栓，所述螺栓的一側固定安裝有固定板，所述箱體內腔的一側固定安裝有固定箱，所述箱體內腔的另一側固定安裝有原料盒，所述原料盒的一側固定安裝有噴頭，所述噴頭的一側固定安裝有調節裝置，所述箱體的一側固定安裝有真空泵，所述真空泵頂部的一側貫通連接有抽氣管，所述箱體頂端的中部固定安裝有升降機，所述升降機的底部固定安裝有電源，所述電源的底部固定安裝在有蒸發罩，所述圓軸的外部與L形板的內部活動套裝。

優選的，所述調節裝置包括套環，所述套環的一側與噴頭的一側固定連接，所述套環的一側開設有卡槽，所述套環的一側活動套裝有噴口，所述噴口一側的頂部和底部均固定安裝有卡扣，所述噴口的一側活動套接有墊片，所述噴口的頂部固定安裝有把手，所述套環和噴口的內部均開設有圓孔。

優選的，所述支撐板的數量為兩個，兩個所述支撐板以水平板的軸心為對稱中心相互對稱。

優選的，所述L形板的頂部與原料盒底部的一側固定連接，所述L形板的一側與固定箱一側的底部固定連接。

優選的，所述蒸發罩側面的寬度值小于原料盒和固定箱的水平距離值，所述蒸發罩側面的寬度值大于待鍍膜件的寬度值。

優選的，所述固定板的數量為兩個，兩個所述固定板之間固定連接有待鍍膜件，兩個所述固定板之間的待鍍膜件的底部與水平板的頂部活動連接。

與現有技術對比，本實用新型具備以下有益效果：

1、該PVD真空電弧鍍膜裝置，通過卡槽和卡扣的配合使用，能夠使噴頭可以在套環的一側旋轉，通過套環、噴頭、圓孔和把手之間的配合設置，能夠有效調節原料噴出量，達到了控制鍍膜量的效果，解決了不同待鍍膜件的鍍膜量不同的問題。

2、該PVD真空電弧鍍膜裝置，通過螺栓、支撐板、水平板和固定板的配合使用，能夠使待鍍膜件固定在水平板上，同時通過電動機、圓軸和水平板之間的配合設置，能夠有效帶動水平板旋轉，同時帶動水平板上的待鍍膜件的旋轉，達到了待鍍膜件的各個面充分鍍膜的效果。