[實用新型]原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置有效
| 申請號: | 201821863927.8 | 申請日: | 2018-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN208995597U | 公開(公告)日: | 2019-06-18 |
| 發明(設計)人: | 張躍飛;屠金磊 | 申請(專利權)人: | 北京工業大學 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C23C16/54 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人: | 王海燕 |
| 地址: | 100000 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 進氣系統 過渡輥 原子層沉積 第二區域 第一區域 本實用新型 卷繞裝置 雙面鍍膜 放卷輥 連續式 收卷輥 基帶 氣管 第一加熱器 加熱器 變向位置 反應效率 依次設置 出氣口 放卷 伸入 收卷 支撐 | ||
1.一種原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,包括箱體,所述箱體內依次設置有第一區域、第二區域和第三區域,所述第二區域分別通過隔離板與所述第一區域和所述第三區域分隔,所述隔離板上設置有供基帶穿過的通孔,所述第一區域內設置有放卷輥、第一過渡輥、第一進氣系統和第一加熱器,所述第二區域內設置有第二進氣系統,所述第三區域內設置有收卷輥、第二過渡輥、第三進氣系統和第二加熱器,所述放卷輥和所述收卷輥分別用以放卷和收卷基帶,所述第一過渡輥和所述第二過渡輥用以對基帶的變向位置進行支撐,所述第一進氣系統、所述第二進氣系統和所述第三進氣系統均包括伸入所述箱體內的勻氣管,所述第一區域、所述第二區域和所述第三區域的所述箱體上均設置有出氣口。
2.根據權利要求1所述的原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,所述第一進氣系統、所述第二進氣系統和所述第三進氣系統還包括高溫閥和密封法蘭,所述高溫閥設置于所述箱體的外側且與所述勻氣管的一端連通,所述勻氣管穿過所述箱體并通過所述密封法蘭與所述箱體密封連接。
3.根據權利要求1所述的原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,所述放卷輥與放卷伺服電機傳動連接,所述放卷伺服電機上設置有放卷磁粉離合器。
4.根據權利要求1所述的原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,所述收卷輥與收卷伺服電機傳動連接,所述收卷伺服電機上設置有收卷磁粉離合器。
5.根據權利要求1所述的原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,所述第一區域的所述箱體上還設置有放卷張力測試輥,所述第三區域的所述箱體上還設置有過收卷張力測試輥,所述放卷張力測試輥和所述收卷張力測試輥的位置可調,所述放卷張力測試輥和所述收卷張力測試輥用以張緊基帶。
6.根據權利要求1所述的原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,所述第一過渡輥和所述第二過渡輥同步轉動。
7.根據權利要求1所述的原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,所述第一過渡輥和所述第二過渡輥在所述箱體的長度方向上間隔設置。
8.根據權利要求1所述的原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,所述第一區域、所述第二區域和所述第三區域由上至下依次設置,所述第一加熱器設置于所述第一過渡輥的下方,所述第二加熱器設置于所述第二過渡輥的上方。
9.根據權利要求1所述的原子層沉積連續式雙面鍍膜的卷繞裝置,其特征在于,所述第一進氣系統、所述第二進氣系統和所述第三進氣系統分別為TMA進氣系統、N2進氣系統和H2O進氣系統。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





