[實用新型]用于制備斜面培養基的可調式試管架

有效

• 申請號: 201821839489.1
• 申請日: 2018-11-07
• 公開（公告）號: CN209901337U
• 公開（公告）日: 2020-01-07
• 發明（設計）人: 唐娟;宋佳磊;范玲莉;唐俊
• 申請（專利權）人: 阜陽師范學院
• 主分類號: B01L9/06
• 分類號: B01L9/06
• 代理公司: 44224 廣州華進聯合專利商標代理有限公司
• 代理人: 曾銀鳳

1.一種用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，包括底座、擋板、支撐架以及固定座；所述擋板與所述支撐架均連接所述底座，所述擋板與所述支撐架相對設置，所述固定座連接所述支撐架，所述固定座相對所述支撐架的位置可調，所述固定座具有用于供試管的開口端放置的固定槽。

2.根據權利要求1所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，所述支撐架為可伸縮支撐架，所述固定座連接所述支撐架遠離所述底座的端部。

3.根據權利要求2所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，所述支撐架包括第一支撐架以及第二支撐架，所述第一支撐架與所述第二支撐架均連接所述底座，所述固定座的兩端分別連接所述第一支撐架遠離所述底座的端部與所述第二支撐架遠離所述底座的端部。

4.根據權利要求3所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，還包括限位件，所述限位件連接所述底座，所述限位件上具有用于對所述試管的封閉端進行限位的限位槽。

5.根據權利要求4所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，所述限位件包括并列設在所述底座上的第一限位桿以及第二限位桿，所述第一限位桿與所述第二限位桿之間具有間隔，所述第一限位桿、所述第二限位桿以及所述底座之間圍成所述限位槽。

6.根據權利要求5所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，所述第一限位桿為第一可伸縮限位桿，所述第二限位桿為第二可伸縮限位桿，所述第一支撐架連接所述第一限位桿，所述第二支撐架連接第二限位桿。

7.根據權利要求4-6任意一項所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，所述支撐架的數量、所述固定座的數量以及所述限位件的數量均為多個，多個所述支撐架與多個所述限位件一一對應，多個所述固定座與多個所述支撐架一一對應。

8.根據權利要求1-6任意一項所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，所述支撐架可轉動連接所述底座。

9.根據權利要求8所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，還包括轉軸，所述支撐架通過所述轉軸可轉動連接所述底座。

10.根據權利要求8所述的用于制備斜面培養基的可調式試管架，其特征在于，所述固定槽為通槽。