[實用新型]真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201821835464.4
• 申請日: 2018-11-08
• 公開（公告）號: CN209456547U
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發明（設計）人: 王昆
• 申請（專利權）人: 天津富可達塑膠制品加工有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 天津市三利專利商標代理有限公司 12107
• 代理人: 李蕊

1.一種真空鍍膜裝置，其特征在于，包括鍍膜室、蒸發裝置以及冷卻裝置；

所述鍍膜室包括內室和外室，且所述外室包裹在所述內室的外側；所述內室上開設有多個出氣口，所述蒸發裝置設置在所述外室與所述內室的間隙處，所述蒸發裝置產生的蒸鍍材料能夠通過所述出氣口覆蓋在被鍍膜基片上；

所述冷卻裝置包括導熱管和導熱壁，所述導熱管設置在所述內室的腔壁上，且所述導熱管具有出水口和進水口，所述出水口和所述進水口分別伸出所述鍍膜室，所述導熱壁位于所述導熱管的兩側，分別與所述內室的腔壁連接。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置,其特征在于，所述冷卻裝置還包括與所述導熱管連接的儲液室；

所述儲液室位于所述鍍膜室的外側，所述導熱管的進水口和出水口分別與所述儲液室連通。

3.根據權利要求2所述的真空鍍膜裝置,其特征在于，所述冷卻裝置還包括冷凝室；

所述冷凝室與所述導熱管的出水口連通，經所述出水口流出的液體流向所述冷凝室冷凝后，再次流向所述儲液室。

4.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置,其特征在于，所述真空鍍膜裝置還包括載片裝置；

所述載片裝置設置在所述內室中，所述載片裝置用于承載需要被鍍膜基片。

5.根據權利要求4所述的真空鍍膜裝置,其特征在于，所述載片裝置包括載片座和與所述載片座滑動連接的載板，所述載片座固設在所述內室，所述載板用于吸附被鍍膜基片。

6.根據權利要求5所述的真空鍍膜裝置,其特征在于，所述載板包括支架、連接件、轉動件和吸附件；

所述支架與所述載片座滑動連接，所述連接件固設在所述支架上，且所述連接件遠離所述支架的一端與所述轉動件鉸接，所述吸附件與所述轉動件遠離所述連接件的一端固接。

7.根據權利要求1-6任一項所述的真空鍍膜裝置,其特征在于，所述真空鍍膜裝置還包括抽真空裝置；

所述抽真空裝置與所述內室連通。

8.根據權利要求7所述的真空鍍膜裝置,其特征在于，所述抽真空裝置包括機械泵、增壓泵和油擴散泵；

所述機械泵、增壓泵和油擴散泵分別通過四通閥連接，且所述四通閥通過真空管道與所述內室連通。