[實用新型]一種直寫式曝光機

有效

• 申請號: 201821818338.8
• 申請日: 2018-11-06
• 公開（公告）號: CN208969429U
• 公開（公告）日: 2019-06-11
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司 32293
• 代理人: 王麗

本實用新型提供了一種直寫式曝光機，可以提高基板的曝光位置精度，生產得到的基板上曝光圖形的質量好，包括底座和設置在所述底座上的多軸運動平臺，所述多軸運動平臺上安裝有基板臺面，基板設置在所述基板臺面上，所述多軸運動平臺能夠帶動基板在三維空間中運動，所述底座上設置有龍門機構，曝光系統、對位系統設置在所述龍門機構上，其特征在于：所述基板臺面一側設置有對準組件，所述對準組件包括下吸盤相機，所述下吸盤相機的鏡頭朝上設置，所述下吸盤相機的鏡頭上方設置有透明標記層，所述透明標記層上設置有標定基礎點，所述下吸盤相機的鏡頭的中心與所述標定基礎點的中心重合。

技術領域

本實用新型涉及光刻技術領域，具體是一種直寫式曝光機。

背景技術

光刻技術是用于在襯底表面上印刷具有特征的構圖。這樣的襯底可包括用于制造半導體器件、多種集成電路、平面顯示器(例如液晶顯示器)、電路板、生物芯片、微機械電子芯片、光電子線路芯片等的基片。直寫光刻技術以替代傳統的掩膜版或菲林底片等曝光的影像直接轉移技術，在半導體及PCB生產領域有著非常重要的作用。曝光位置精度是客戶需求的一項重要指標，那么提高位置關系標定精度則變的至關重要。

實用新型內容

針對上述問題，本實用新型提供了一種直寫式曝光機，可以提高基板的曝光位置精度，生產得到的基板上曝光圖形的質量好。

其技術方案是這樣的：一種直寫式曝光機，包括底座和設置在所述底座上的多軸運動平臺，所述多軸運動平臺上安裝有基板臺面，基板設置在所述基板臺面上，所述多軸運動平臺能夠帶動基板在三維空間中運動，所述底座上設置有龍門機構，曝光系統、對位系統設置在所述龍門機構上，其特征在于：所述基板臺面一側設置有對準組件，所述對準組件包括下吸盤相機，所述下吸盤相機的鏡頭朝上設置，所述下吸盤相機的鏡頭上方設置有透明標記層，所述透明標記層上設置有標定基礎點，所述下吸盤相機的鏡頭的中心與所述標定基礎點的中心重合。

進一步的，所述多軸運動平臺包括y軸運動組件、x軸運動組件、z軸運動組件以及θ軸運動組件，所述y軸運動組件設置在底座上，所述x軸運動組件設置在y軸運動組件上，所述z軸運動組件和所述θ軸運動組件一體設置固定在x軸運動組件上，所述基板臺面設置在呈一體設置的z軸和θ軸運動組件上，所述X軸運動組件和y軸運動組件配合能夠使得所述基板臺面在平行于所述底座的平面內移動，所述z軸運動組件能夠使得所述基板臺面的基板運動到曝光和對位的焦面，所述θ軸運動組件能夠實現所述基板臺面上的基板的旋轉。

進一步的，所述曝光系統包括曝光鏡頭，所述對位系統包括CCD相機、基準鏡頭和照明光源。

進一步的，所述透明標記層為玻璃層。

進一步的，所述底座和所述龍門機構通過螺釘連接，所述y軸運動組件通過螺釘鎖緊到所述底座上，x軸運動組件通過螺釘鎖緊到y軸運動組件上，所述z軸運動組件和所述θ軸運動組件通過螺釘鎖緊到x軸運動組件上。

進一步的，所述基板臺面的至少能夠承載一片基板，所述對位系統的數量對應所述基板的數量設置。

進一步的，所述基板臺面平面度誤差小于100um。

進一步的，所述底座為大理石底座。

進一步的，所述基板臺面的一側還設置有定位標尺，所述基板通過所述定位標尺定位置于所述基板臺面上。

本實用新型的直寫式曝光機通過設置對準組件，通過對準組件設有標定基礎點，通過標定基礎點確定曝光鏡頭、基準鏡頭的位置以及曝光鏡頭與基準鏡頭之間的相對位置關系，從而得出曝光鏡頭與基板的上的基準點的位置關系，從而可以得到曝光機所需的高精度的曝光起始點，通過該曝光起始點，提高基板的曝光位置精度，生產得到的基板上曝光圖形的質量好。

附圖說明

圖1為本實用新型的直寫式曝光機的結構示意圖；