[實用新型]一種雙平臺全周打磨拋光裝置

有效

• 申請號: 201821811132.2
• 申請日: 2018-11-05
• 公開（公告）號: CN209439948U
• 公開（公告）日: 2019-09-27
• 發明（設計）人: 王華
• 申請（專利權）人: 王華
• 主分類號: B24B27/00
• 分類號: B24B27/00;B24B55/06
• 代理公司: 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203
• 代理人: 范小艷;徐勛夫

1.一種雙平臺全周打磨拋光裝置，其特征在于：包括有第一打磨拋光單元、第二打磨拋光單元及主控單元，所述主控單元分別連接于第一打磨拋光單元、第二打磨拋光單元；第一打磨拋光單元、第二打磨拋光單元圍繞一打磨拋光區布置；所述打磨拋光區設置有第一端工作點、第二端工位點；所述第一打磨拋光單元以第一端工作點為打磨拋光起點、第二端工位點為打磨拋光終點，第一打磨拋光單元于打磨拋光區的一側往復位移于第一端工作點、第二端工位點之間；所述第二打磨拋光單元以第二端工作點為打磨拋光起點、第一端工位點為打磨拋光終點，第二打磨拋光單元于打磨拋光區的另一側往復位移于第一端工作點、第二端工位點之間。

2.根據權利要求1所述的一種雙平臺全周打磨拋光裝置，其特征在于：所述第一打磨拋光單元包括有第一橫向位移機構、第一豎向位移機構以及第一打磨拋光機頭，所述第一打磨拋光機頭連接于第一豎向位移機構且相對第一豎向位移機構可豎向往復位移式裝設，第一豎向位移機構連接第一橫向位移機構且相對第一橫向位移機構可橫向往復位移式裝設；所述第一打磨拋光機頭包括有左右布置的第一拋光頭、第一打磨頭；

所述第二打磨拋光單元包括有第二橫向位移機構、第二豎向位移機構以及第二打磨拋光機頭，所述第二打磨拋光機頭連接于第二豎向位移機構且相對第二豎向位移機構可豎向往復位移式裝設，第二豎向位移機構連接第二橫向位移機構且相對第二橫向位移機構可橫向往復位移式裝設；所述第一打磨拋光機頭包括有左右布置的第二打磨頭、第二拋光頭；

所述第一端工作點、第二端工位點分別位于打磨拋光區的左、右端；所述第一、第二豎向位移機構分別對應第一、第二端工作點的外側布置，所述第一、第二橫向位移機構分別對應打磨拋光區的前、后側布置。

3.根據權利要求2所述的一種雙平臺全周打磨拋光裝置，其特征在于：所述第一打磨頭由第一電機驅動連接，所述第一打磨頭經同步帶傳動連接于第一拋光頭，所述第一拋光頭連接有第一浮動彈性結構，所述第一拋光頭相對第一打磨頭可彈性位移式設置；

所述第二打磨頭由第一電機驅動連接，所述第二打磨頭經同步帶傳動連接于第二拋光頭，所述第二拋光頭連接有第二浮動彈性結構，所述第二拋光頭相對第二打磨頭可彈性位移式設置。

4.根據權利要求1所述的一種雙平臺全周打磨拋光裝置，其特征在于：所述打磨拋光區配置有用于上下壓合定位工件的工件夾持定位機構；所述工件夾持定位機構包括有上側夾持組件和下側夾持組件；所述上側夾持組件包括有上側夾持治具和用于控制上側夾持治具升降的定位夾持氣缸；所述下側夾持組件包括有下側夾持治具和用于控制下側夾持治具升降的上頂氣缸；所述工件夾持定位機構連接于主控單元。

5.根據權利要求4所述的一種雙平臺全周打磨拋光裝置，其特征在于：所述打磨拋光區設置有用于承接工件的定位治具，所述定位治具內開設有上下貫通的讓位孔，所述下側夾持治具的上端伸入讓位孔內。

6.根據權利要求1所述的一種雙平臺全周打磨拋光裝置，其特征在于：針對打磨拋光區還設置有抽風集塵系統；所述抽風集塵系統包括有粉塵護罩、處理箱、吸風裝置及朝向工件吹氣的噴嘴；粉塵護罩圍繞于打磨拋光區的外圍，所述粉塵護罩的內部圍設有集塵腔，所述集塵腔的下端連通處理箱；所述吸風裝置的進氣端連通處理箱，所述吸風裝置的出氣端連通噴嘴。

7.根據權利要求6所述的一種雙平臺全周打磨拋光裝置，其特征在于：所述處理箱的頂部設置有防止粉塵上揚的防塵過濾網。