[實用新型]一種基于雙模式的太赫茲波高靈敏度成像裝置

有效

• 申請號: 201821808045.1
• 申請日: 2018-11-05
• 公開（公告）號: CN209513618U
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 徐德剛;武麗敏;王與燁;姚建銓
• 申請（專利權）人: 天津大學
• 主分類號: G01N21/552
• 分類號: G01N21/552
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201
• 代理人: 李林娟

1.一種基于雙模式的高靈敏度太赫茲波成像裝置，其特征在于，

太赫茲波平面反射鏡、第一太赫茲離軸拋物面鏡、第二太赫茲離軸拋物面鏡與第三太赫茲離軸拋物面鏡依次設置在太赫茲波的出射光路上；

反射成像窗口及全反射成像棱鏡的底面被置于第一太赫茲離軸拋物面鏡和第二太赫茲離軸拋物面鏡的水平焦平面上；

透過反射成像窗口的入射太赫茲波入射到樣品，攜帶樣品信息的太赫茲波再次經過反射成像窗口后被第二太赫茲波離軸拋物面鏡聚焦并接收，獲得反射成像；

太赫茲波經第一太赫茲離軸拋物面鏡聚焦后入射到全反射成像棱鏡的一個側面上，太赫茲波在垂直全反射成像棱鏡底面的方向產生倏逝波；

倏逝波垂直入射到樣品，攜帶樣品信息的太赫茲波在全反射成像棱鏡的另一個側面出射，出射后的太赫茲波被第二太赫茲離軸拋物面鏡收集并接收，并通過太赫茲波平面反射鏡反射，入射到太赫茲探測器，以獲得樣品的全反射成像結果。

2.根據權利要求1所述的一種基于雙模式的高靈敏度太赫茲波成像裝置，其特征在于，所述反射成像窗口為對太赫茲波高透的材料，所述全反射成像棱鏡為對太赫茲高透的等腰三棱鏡。

3.根據權利要求1所述的一種基于雙模式的高靈敏度太赫茲波成像裝置，其特征在于，所述太赫茲源為連續或脈沖太赫茲輻射源。

4.根據權利要求1所述的一種基于雙模式的高靈敏度太赫茲波成像裝置，其特征在于，太赫茲波平面反射鏡、第一太赫茲反射離軸拋物面鏡、第二太赫茲反射離軸拋物面鏡和第三太赫茲反射離軸拋物面鏡均鍍太赫茲波段的寬帶高反膜。