[實(shí)用新型]光投射模組以及具有其的圖像采集系統(tǒng)和三維傳感系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821792902.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209570754U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-11-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 苑京立;朱慶峰;田克漢;尹曉東;張國(guó)偉;蔣超;楊興朋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京馭光科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B27/42 | 分類號(hào): | G02B27/42;G01B11/25 |
| 代理公司: | 北京志霖律師事務(wù)所 11575 | 代理人: | 吳艷 |
| 地址: | 100083 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光投射 模組 三維傳感系統(tǒng) 圖像采集系統(tǒng) 光學(xué)器件 光源 結(jié)構(gòu)光圖案 泛光照明 均勻背景 照明光場(chǎng) 集成化 投射光 投射 可控 疊加 光照 圖案 申請(qǐng) | ||
1.一種光投射模組,包括光源、光學(xué)器件和殼體,所述光源和所述光學(xué)器件安裝在所述殼體中,所述光學(xué)器件接收來(lái)自所述光源的光,其特征在于,所述光學(xué)器件包括第一光學(xué)區(qū)域和第二光學(xué)區(qū)域,所述第一光學(xué)區(qū)域具有用于形成結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的第一光學(xué)微結(jié)構(gòu),所述第二光學(xué)區(qū)域具有用于形成泛光照明光場(chǎng)的第二光學(xué)微結(jié)構(gòu),所述第一光學(xué)區(qū)域和第二光學(xué)區(qū)域形成彼此疊加的結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)和泛光照明光場(chǎng)。
2.如權(quán)利要求1所述的光投射模組,其特征在于,所述泛光照明光場(chǎng)與所述結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的亮度比在1:3~1:50的范圍內(nèi)。
3.如權(quán)利要求2所述的光投射模組,其特征在于,所述泛光照明光場(chǎng)與所述結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的亮度比在1:3~1:9的范圍內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的光投射模組,其特征在于,所述第一光學(xué)區(qū)域包括陣列布置的多個(gè)子區(qū)域,并且所述第二光學(xué)區(qū)域至少部分地圍繞在所述多個(gè)子區(qū)域的周圍。
5.如權(quán)利要求1所述的光投射模組,其特征在于,來(lái)自同一光源的光照射到第一光學(xué)區(qū)域和第二光學(xué)區(qū)域二者上。
6.如權(quán)利要求1所述的光投射模組,其特征在于,所述光源包括第一光源和不同于第一光源的第二光源,所述第一光源照射第一光學(xué)區(qū)域,所述第二光源照射第二光學(xué)區(qū)域。
7.如權(quán)利要求1所述的光投射模組,其特征在于,所述光學(xué)器件為衍射光學(xué)元件,即DOE。
8.如權(quán)利要求1所述的光投射模組,其特征在于,所述光學(xué)器件是整體形成的。
9.如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的光投射模組,其特征在于,所述殼體內(nèi)壁采用白色漫反射材質(zhì)。
10.一種光投射模組,包括光源、光學(xué)器件和殼體,所述光源和光學(xué)器件安裝在所述殼體中,所述光學(xué)器件接收來(lái)自所述光源的光,其特征在于,所述光學(xué)器件包括第一光學(xué)區(qū)域和第二光學(xué)區(qū)域,所述第一光學(xué)區(qū)域具有用于形成結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的第一光學(xué)微結(jié)構(gòu),所述第二光學(xué)區(qū)域具有用于形成泛光照明光場(chǎng)的至少一個(gè)透鏡,所述第一光學(xué)區(qū)域和第二光學(xué)區(qū)域形成彼此疊加的結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)和泛光照明光場(chǎng)。
11.如權(quán)利要求10所述的光投射模組,其特征在于,所述泛光照明光場(chǎng)與所述結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的亮度比在1:3~1:50的范圍內(nèi)。
12.如權(quán)利要求11所述的光投射模組,其特征在于,所述泛光照明光場(chǎng)與所述結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的亮度比在1:3~1:9的范圍內(nèi)。
13.如權(quán)利要求10所述的光投射模組,其特征在于,所述至少一個(gè)透鏡包括微透鏡陣列。
14.如權(quán)利要求10-13中任一項(xiàng)所述的光投射模組,其特征在于,所述殼體內(nèi)壁采用白色漫反射材質(zhì)。
15.一種光投射模組,包括光源、光學(xué)器件和殼體,所述光源和光學(xué)器件安裝在所述殼體中,所述光學(xué)器件接收來(lái)自所述光源的光,其特征在于,所述光學(xué)器件為衍射光學(xué)元件,即DOE,并且該衍射光學(xué)元件形成的結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的亮度與該衍射光學(xué)元件透射雜散光而形成的均勻背景光的亮度的比在3:1~50:1的范圍內(nèi)。
16.如權(quán)利要求15所述的光投射模組,其特征在于,所述結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的亮度與所述均勻背景光的亮度的比在3:1~9:1的范圍內(nèi)。
17.如權(quán)利要求16所述的光投射模組,其特征在于,所述結(jié)構(gòu)光光場(chǎng)的亮度與所述均勻背景光的亮度的比在4:1~8:1的范圍內(nèi)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京馭光科技發(fā)展有限公司,未經(jīng)北京馭光科技發(fā)展有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821792902.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:舒適型VR眼罩
- 下一篇:一種3D相機(jī)的散斑投射器





