[實用新型]一種硅片用自動清洗裝置

有效

• 申請號: 201821791277.0
• 申請日: 2018-11-01
• 公開（公告）號: CN209205921U
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 拜鵬;周雷雷;馮瑞;蘭晶
• 申請（專利權）人: 西安烽火光伏科技股份有限公司
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10;B08B3/12;B08B13/00
• 代理公司: 西安弘理專利事務所 61214
• 代理人: 燕肇琪

1.一種硅片用自動清洗裝置，包括承載板(1)以及安裝架(2)，其特征在于，所述安裝架(2)安置于承載板(1)上壁面，且側壁面安裝有動態清洗結構，所述承載板(1)上壁面且位于動態清洗結構下方安裝有超聲震動結構；

所述動態清洗結構，其包括：第一伺服電機(3)、連接桿(4)、Y型旋轉桿(5)、活動桿(6)、固定桿(7)以及放置架(8)；

所述第一伺服電機(3)安置于安裝架(2)側壁面，所述連接桿(4)安置于第一伺服電機(3)驅動端上，所述Y型旋轉桿(5)安置于連接桿(4)上，所述活動桿(6)活動連接與Y型旋轉桿(5)上，所述固定桿(7)安置于活動桿(6)側壁面，所述放置架(8)安置于Y型旋轉桿(5)另一側端頭上；

所述超聲震動結構，其包括：第二伺服電機(9)、安裝板(10)、支撐桿(11)、一對結構相同的超聲波發生器(12)、一對結構相同的超聲波換能器(13)以及洗液盆(14)；

所述第二伺服電機(9)安置于承載板(1)上壁面，所述安裝板(10)安置于第二伺服電機(9)驅動端上，所述支撐桿(11)安置于安裝板(10)上壁面，一對所述超聲波發生器(12)安置于安裝板(10)上壁面且位于支撐桿(11)兩側，一對所述超聲波換能器(13)安置于一對所述超聲波發生器(12)端頭上，所述洗液盆(14)安置于支撐桿(11)上。

2.根據權利要求1所述的一種硅片用自動清洗裝置，其特征在于,所述洗液盆(14)側壁面安裝有排水閥(15)：該排水閥(15)用于排放清洗液。

3.根據權利要求1所述的一種硅片用自動清洗裝置，其特征在于,所述放置架(8)內開設有卡槽：該卡槽用于固定硅片。

4.根據權利要求1所述的一種硅片用自動清洗裝置，其特征在于,所述洗液盆(14)側壁面安裝有噴頭(16)：該噴頭(16)用于二次清洗。

5.根據權利要求1所述的一種硅片用自動清洗裝置，其特征在于,所述承載板(1)下壁面安裝有萬向輪(17)：該萬向輪(17)用于裝置輔助移動。

6.根據權利要求1所述的一種硅片用自動清洗裝置，其特征在于,所述洗液盆(14)內壁面安裝有密封墊(18)：該密封墊(18)防止清洗液泄漏。