[實用新型]一種帶有化學除氧系統的真空熱處理爐

有效

• 申請號: 201821785282.0
• 申請日: 2018-10-31
• 公開（公告）號: CN209081943U
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 楊景峰;郁偉榮;沈鵬
• 申請（專利權）人: 上海頤柏熱處理設備有限公司
• 主分類號: C21D1/773
• 分類號: C21D1/773;C21D9/00
• 代理公司: 上海科盛知識產權代理有限公司 31225
• 代理人: 趙繼明

本實用新型涉及一種帶有化學除氧系統的真空熱處理爐，包括保護氣源(1)、真空爐室(5)和真空泵(6)，所述的保護(1)和真空泵(6)分別與真空爐室(5)連接，所述的真空熱處理爐還包括除氧罐(2)，所述的除氧罐(2)一端通過保護氣進氣閥(18)與保護氣源(1)連接，另一端通過保護氣出氣閥(23)與真空爐室(5)連接，除氧罐(2)中裝有除氧層(13)和加熱器(14)。與現有技術相比，本實用新型在保護氣源后方設置除氧罐，可使真空爐工作在10²Pa的壓力范圍，為工件創造無氧環境，保證工件加熱時不被氧化，升溫速度較高真空爐快，減少升溫時間，真空爐無需配備渦輪分子泵，大大降低真空泵帶來的動力消耗和機械磨損。

技術領域

本實用新型涉及一種真空熱處理爐，尤其是涉及一種帶有化學除氧系統的真空熱處理爐。

背景技術

真空熱處理是指采用真空爐進行零件的熱處理工藝過程，真空爐在真空狀態下的加熱方式為輻射，加熱速度慢，自動化程度高，溫度均勻性好，工藝重現性好，處理的零件具有變形小、表面狀態好、壽命高等特點，在小型零件以及關鍵零部件領域應用十分廣泛，尤其對于變形要求十分苛刻的部件，真空爐可解決這一熱處理難題。

真空熱處理的發展離不開熱處理設備。真空爐從最初的油淬爐、氣淬油冷爐到氣淬爐，可滿足通常材料的熱處理，進入20世紀90年代，高壓氣淬真空爐的問世，極大推動了真空熱處理在工模具等行業中的應用。

國內外真空氣淬爐的發展分為四個階段，第一階段為低壓氣冷階段，在負壓氣淬爐的基礎上，出現氣體壓強增加到0.15～0.2MPa，可進行直徑在20mm以下的高速鋼的加壓氣淬爐；第二階段為高壓氣冷階段，生產氣冷壓力為0.5MPa的高壓氣淬爐，可處理大截面(有效厚度為100mm以上)的高速鋼工件；第三階段為高流率氣冷階段，其氣冷壓強0.2MPa，氣體流率3.5m³/s，噴嘴流速40m/s，可將50mm的高速鋼淬硬；第四階段為增壓(高壓高流率)氣冷階段，氣淬爐的壓力由0.6MPa、1MPa、2MPa后提高到4MPa等，可滿足一般合金鋼的熱處理淬火需要。

真空加熱因其傳熱方式為單一的輻射傳熱，升溫階段輻射效率低，特別是背輻射和隱蔽處，是靠間接輻射和傳導的熱量升溫的，故升溫速度較低，升溫時間較長，工作表面與爐膛指示溫度差大。真空環境需要真空泵不停歇運轉，因此長時間的升溫過程增加了真空泵帶來的動力消耗和機械磨損。

實用新型內容

本實用新型的目的就是為了克服上述現有技術存在的缺陷而提供一種帶有化學除氧系統的真空熱處理爐。

本實用新型的目的可以通過以下技術方案來實現：

一種帶有化學除氧系統的真空熱處理爐，包括保護氣源、真空爐室和真空泵，所述的保護氣源和真空泵分別與真空爐室連接，所述的保護氣源是N₂、Ar、He等保護氣鋼瓶，也可以是制氮機，所述的真空熱處理爐還包括除氧罐，所述的除氧罐一端通過保護氣進氣閥與保護氣源連接，另一端通過保護氣出氣閥與真空爐室連接，除氧罐中裝有除氧層和加熱器。

所述的真空熱處理爐還包括還原氣源，所述的還原氣源通過還原氣進氣閥與除氧罐一端連接，除氧罐另一端通過還原氣出氣閥與真空泵連接。

所述的保護氣進氣閥、保護氣出氣閥、還原氣進氣閥和還原氣出氣閥分別通過緩沖區與除氧罐連接。

所述的除氧罐與真空爐室之間連有除CO₂罐。

所述的除氧罐與真空爐室之間連有干燥罐。

所述的除氧罐中自底向上依次設有第一多孔不銹鋼板、第一固體顆粒阻擋層、第二多孔不銹鋼板、除氧層、第三多孔不銹鋼板、第二固體顆粒阻擋層和第四多孔不銹鋼板。

所述的除氧層中裝有除氧劑，所述的除氧劑為球狀多孔陶瓷。

與現有技術相比，本實用新型具有以下優點：