[實(shí)用新型]一種電鍍廢水回收處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821783791.X
• 申請日: 2018-10-31
• 公開（公告）號(hào): CN209210508U
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹衛(wèi)兵
• 申請（專利權(quán)）人: 博羅騰龍科技有限公司
• 主分類號(hào): C02F9/02
• 分類號(hào): C02F9/02;C02F103/16
• 代理公司: 惠州市超越知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44349
• 代理人: 陳文福

本實(shí)用新型涉及一種電鍍廢水回收處理設(shè)備，包括用于盛放電鍍液的電鍍槽，電鍍槽槽底的一側(cè)貫穿設(shè)置有清洗出口管，電鍍槽槽底遠(yuǎn)離清洗出口管的一側(cè)貫穿設(shè)置有循環(huán)排液管，清洗出口管和循環(huán)排液管之間設(shè)置有間隔部，間隔部側(cè)壁上開設(shè)有第一鼓氣孔，間隔部內(nèi)設(shè)置有通氣管道，間隔部連接有進(jìn)氣管，進(jìn)氣管連通通氣管道，進(jìn)氣管遠(yuǎn)離間隔部的一端連接有鼓氣裝置，循環(huán)排液管遠(yuǎn)離電鍍槽的一端連接有循環(huán)槽，循環(huán)槽一側(cè)內(nèi)壁中部貫穿設(shè)置有循環(huán)出口管，循環(huán)出口管連接有循環(huán)泵，循環(huán)泵連接有循環(huán)進(jìn)液管，循環(huán)進(jìn)液管遠(yuǎn)離循環(huán)出口管的一端連接電鍍槽。沉淀在槽底的雜質(zhì)在氣體的作用下懸浮在溶液內(nèi)，懸浮的雜質(zhì)隨電鍍液流入循環(huán)槽過濾，簡化清洗過程。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及電鍍設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種電鍍廢水回收處理設(shè)備。

背景技術(shù)

電鍍指的是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程，電鍍時(shí)，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的工件做陰極。電鍍槽是電鍍設(shè)備中最常用的設(shè)備，其主要功能是盛裝電鍍?nèi)芤海杂糜阱冧\、鍍銅、鍍鎳和鍍金等。現(xiàn)在的電鍍設(shè)備是通過不斷攪拌來使電鍍液擴(kuò)散均勻，避免溶液出現(xiàn)濃差極化，防止鍍件表面出現(xiàn)針孔、麻點(diǎn)等不良現(xiàn)象。電鍍液很難攪拌充分，在攪拌的過程中，會(huì)將一些沉淀物攪起，影響了工件的表面鎳層的附著力和致密度。且通常在電鍍時(shí)由于陽極溶解、外界環(huán)境等因素，電鍍液中會(huì)出現(xiàn)漂浮物或者雜質(zhì)，為了防止電鍍液中的雜質(zhì)對放置于電鍍槽中的零件的電鍍產(chǎn)生影響，則每隔一段時(shí)間，需要對電鍍槽中的電鍍液進(jìn)行凈化過濾或者更換。而過濾以后原電鍍液也需要加入一定比例的電鍍液，且電鍍槽需要清洗，將電鍍液抽出清洗電鍍槽后再注入電鍍液操作繁瑣，影響工作效率。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：一種電鍍廢水回收處理設(shè)備，包括用于盛放電鍍液的電鍍槽，電鍍槽槽底的一側(cè)貫穿設(shè)置有清洗出口管，所述電鍍槽槽底遠(yuǎn)離清洗出口管的一側(cè)貫穿設(shè)置有循環(huán)排液管，清洗出口管和循環(huán)排液管之間的電鍍槽槽底設(shè)置有間隔部，間隔部靠近循環(huán)排液管的側(cè)壁上開設(shè)有若干第一鼓氣孔，間隔部內(nèi)設(shè)置有通氣管道，間隔部連接有進(jìn)氣管，進(jìn)氣管連通通氣管道，進(jìn)氣管遠(yuǎn)離間隔部的一端連接有鼓氣裝置，循環(huán)排液管遠(yuǎn)離電鍍槽的一端連接有循環(huán)槽，循環(huán)槽一側(cè)內(nèi)壁中部貫穿設(shè)置有循環(huán)出口管，循環(huán)出口管連接有循環(huán)泵，循環(huán)泵連接有循環(huán)進(jìn)液管，循環(huán)進(jìn)液管遠(yuǎn)離循環(huán)出口管的一端連接電鍍槽。

通過清洗出口管的設(shè)置避免清洗電鍍槽時(shí)抽出再注入電鍍液的繁瑣步驟，簡化了清洗過程，空氣攪拌后的電鍍液通過循環(huán)排液管進(jìn)行循環(huán)過濾，減少電鍍槽槽底沉積的雜質(zhì)。

電鍍槽為矩形體槽結(jié)構(gòu)，間隔部為長條狀中空結(jié)構(gòu)且縱截面呈等腰梯形，間隔部沿電鍍槽長度方向設(shè)置。

間隔部與電鍍槽槽底一體成型，間隔部靠近循環(huán)排液管的側(cè)壁上開設(shè)有若干第一鼓氣孔，間隔部上端面開設(shè)有一進(jìn)氣口，通氣管道和進(jìn)氣管通過進(jìn)氣口連通。

通過間隔部向循環(huán)排液管所在的一側(cè)鼓氣，使鍍液中的顆粒物質(zhì)混合均勻，使沉淀在電鍍槽槽底的顆粒再次進(jìn)入溶液并懸浮在溶液內(nèi)，從而使鍍液中的顆粒物質(zhì)混合均勻后流入循環(huán)排液管，進(jìn)而減少顆粒沉淀在電鍍槽槽底。

間隔部外壁貫穿設(shè)置有至少一立柱，立柱為側(cè)面和頂面開設(shè)有若干第二鼓氣孔的圓柱狀中空結(jié)構(gòu)，立柱底面連通通氣管道。

通過立柱向電鍍槽內(nèi)鼓氣，使電鍍液中的顆粒物質(zhì)混合均勻。

進(jìn)氣管靠近鼓氣裝置的一端設(shè)置有阻斷電鍍液倒流的止回閥和控制進(jìn)氣管通氣或斷氣的進(jìn)氣閥門，進(jìn)氣管固定于電鍍槽內(nèi)側(cè)壁上。電鍍槽內(nèi)設(shè)置有絕緣板，進(jìn)氣管設(shè)置于絕緣板與電鍍槽內(nèi)壁之間。

電鍍槽的內(nèi)側(cè)壁上豎直設(shè)置有若干凸條，凸條為側(cè)壁開設(shè)有若干第三鼓氣孔的長方體，凸條內(nèi)沿豎直方向設(shè)置有中空部，第三鼓氣孔和中空部連通，凸條設(shè)置于絕緣板與電鍍槽內(nèi)壁之間，絕緣板上開設(shè)有若干氣孔，氣孔與第三鼓氣孔一一對應(yīng)。通過凸條上的第三鼓氣孔向電鍍槽中鼓氣。