[實(shí)用新型]防偽結(jié)構(gòu)、全息燙印防偽膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821780076.0 | 申請日： | 2018-10-30 |
| 公開（公告）號： | CN209028338U | 公開（公告）日： | 2019-06-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 黃燕燕;王笑冰;周海濱;周菲菲 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市深大極光科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B27/22 | 分類號： | G02B27/22;G02B27/42;G09F3/02 |
| 代理公司： | 深圳市科進(jìn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹衛(wèi)良 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 防偽結(jié)構(gòu) 高頻光柵 浮雕結(jié)構(gòu) 結(jié)構(gòu)層 本實(shí)用新型 防偽力度 防偽效果 浮雕圖像 互不干擾 直接附著 彩虹色 防偽膜 金屬感 納米級 微米級 衍射光 全息 觀察 色散 燙印 圖像 | ||
1.一種防偽結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：低頻浮雕結(jié)構(gòu)層及附著在所述低頻浮雕結(jié)構(gòu)層上的高頻光柵結(jié)構(gòu)層，所述低頻浮雕結(jié)構(gòu)層的空間頻率范圍為20-125線/mm，所述高頻光柵結(jié)構(gòu)層的空間頻率范圍為1000-3000線/mm。
2.如權(quán)利要求1所述的防偽結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述低頻浮雕結(jié)構(gòu)層的高度比所述高頻光柵結(jié)構(gòu)層的高度大6倍以上，所述低頻浮雕結(jié)構(gòu)層的高度小于2.5μm。
3.如權(quán)利要求1所述的防偽結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述低頻浮雕結(jié)構(gòu)層的剖面為鋸齒形或正弦形，所述高頻光柵結(jié)構(gòu)層的剖面為正弦形或矩形。
4.如權(quán)利要求1所述的防偽結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述低頻浮雕結(jié)構(gòu)層的二維分布是等高線圖或光柵點(diǎn)陣。
5.如權(quán)利要求1所述的防偽結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述高頻光柵結(jié)構(gòu)層的分布是一維等周期的光柵或光柵點(diǎn)陣。
6.如權(quán)利要求1所述的防偽結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述高頻光柵結(jié)構(gòu)層的厚度為30nm-400nm之間，所述低頻浮雕結(jié)構(gòu)層的厚度在0.3μm-2.5μm之間。
7.一種全息燙印防偽膜，其特征在于，包括：依次層疊設(shè)置的基膜、離型層、低頻浮雕結(jié)構(gòu)層、高頻光柵結(jié)構(gòu)層、鍍層及背膠層，所述低頻浮雕結(jié)構(gòu)層的空間頻率范圍為20-125線/mm，所述高頻光柵結(jié)構(gòu)層的空間頻率范圍為1000-3000線/mm。
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