[實用新型]蒸鍍裝置及其擋板機構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821778438.2 | 申請日: | 2018-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN209128529U | 公開(公告)日: | 2019-07-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏雄偉 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東聚華印刷顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 向薇 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 沉積 擋板 收放裝置 蒸鍍材料 擋板機構(gòu) 蒸鍍裝置 收放 本實用新型 收集面 覆蓋 卷收 蒸鍍 污染 | ||
1.一種蒸鍍裝置的擋板機構(gòu),其特征在于,包括擋板、收放裝置和收集薄膜,所述擋板的一端用于與蒸鍍裝置的蒸鍍腔體連接,所述擋板具有收集面;所述收放裝置設(shè)于所述擋板上,所述收集薄膜設(shè)于所述收放裝置上且覆蓋所述收集面,所述收集薄膜用于收集蒸鍍材料,所述收放裝置用于收放所述收集薄膜。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置的擋板機構(gòu),其特征在于,所述收放裝置包括平行設(shè)置的放卷軸及收卷軸,所述收集薄膜的一端纏繞形成的卷筒套設(shè)于所述放卷軸上,所述收集薄膜的另一端固定于所述收卷軸上。
3.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍裝置的擋板機構(gòu),其特征在于,所述收卷軸與所述放卷軸分別設(shè)置在所述擋板的收集面和與所述收集面相對的表面上。
4.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍裝置的擋板機構(gòu),其特征在于,所述放卷軸與所述收卷軸靠近所述擋板的同一端設(shè)置。
5.如權(quán)利要求4所述的蒸鍍裝置的擋板機構(gòu),其特征在于,還包括滾軸,所述滾軸可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述擋板的遠離所述放卷軸和所述收卷軸的端部,所述滾軸與所述放卷軸平行設(shè)置。
6.如權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置的擋板機構(gòu),其特征在于,所述滾軸的直徑不小于所述擋板的厚度。
7.如權(quán)利要求1~6任一項所述的蒸鍍裝置的擋板機構(gòu),其特征在于,還包括擋板支架,所述擋板支架的一端連接于所述擋板,所述擋板支架的另一端用于與所述蒸鍍裝置的蒸鍍腔體連接,所述擋板支架能夠伸縮以帶動所述擋板運動。
8.一種蒸鍍裝置,其特征在于,包括蒸鍍腔體以及設(shè)置在所述蒸鍍腔體內(nèi)的基板支架和如權(quán)利要求1~7任一項所述的擋板機構(gòu),所述基板支架連接于所述蒸鍍腔體的頂部,所述擋板機構(gòu)設(shè)置在所述基板支架的下方,所述擋板連接于所述蒸鍍腔體的側(cè)壁,且所述收集面背向所述基板支架設(shè)置。
9.如權(quán)利要求8所述的蒸鍍裝置,其特征在于,還包括蒸出速率監(jiān)測器,所述蒸出速率監(jiān)測器設(shè)置在所述蒸鍍腔體內(nèi),所述蒸出速率監(jiān)測器用于檢測蒸鍍材料的蒸出速率。
10.如權(quán)利要求8或9所述的蒸鍍裝置,其特征在于,還包括蒸鍍?nèi)萜鳎稣翦內(nèi)萜髟O(shè)置在所述蒸鍍腔體的底部。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





