[實(shí)用新型]一種圖案化控偏膜片

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821775690.8
• 申請日: 2018-10-31
• 公開（公告）號: CN208847861U
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新宇;張湯安蘇
• 申請（專利權(quán)）人: 南京奧譜依電子科技有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30
• 代理公司: 武漢臻誠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 42233
• 代理人: 宋業(yè)斌

本實(shí)用新型公開了一種圖案化控偏膜片，其包括從上到下依次平行設(shè)置的第一保護(hù)膜、基片、至少一個(gè)偏振膜、以及第二保護(hù)膜，偏振膜是由封閉或不封閉的多個(gè)金屬/金屬氧化物線簇構(gòu)成。本實(shí)用新型能夠解決現(xiàn)有控偏膜片存在的僅能將透射光波驅(qū)控在特定偏振態(tài)上的技術(shù)問題，同時(shí)可根據(jù)所使用的不同偏振膜配置傳輸光波的偏振取向，并可實(shí)現(xiàn)光矢量的從優(yōu)振動取向以連續(xù)或離散方式空變共存的優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于光波精密測量與控制技術(shù)領(lǐng)域，更具體地，涉及一種圖案化控偏膜片。

背景技術(shù)

迄今為止，用于執(zhí)行光矢量振動取向的定向選擇與調(diào)節(jié)的控偏膜片被廣泛應(yīng)用在多種光學(xué)器件或系統(tǒng)中，用于實(shí)現(xiàn)不同的光偏振。典型的控偏膜片包括有兩種，第一種是晶化薄膜，第二種是細(xì)薄金屬/金屬氧化物線陣構(gòu)成的、具有特定取向的光柵結(jié)構(gòu)。

然而，上述兩種控偏膜片均存在一些不可忽略的技術(shù)問題，首先，其都是基于材料的本征電磁響應(yīng)和控制屬性，僅能將透射光波驅(qū)控在特定偏振態(tài)上；其次，其無法實(shí)現(xiàn)按需設(shè)置或任意配置傳輸光波的偏振取向；第三，其難以實(shí)現(xiàn)光矢量的從優(yōu)振動取向的多向空變共存、以及光矢量振動取向的圖案化連續(xù)空變分布；最后，細(xì)薄金屬/金屬氧化物線陣構(gòu)成的光柵結(jié)構(gòu)是通過有限數(shù)量空間取向上的預(yù)設(shè)金屬/金屬氧化物光柵實(shí)現(xiàn)，僅能分離出基于有限數(shù)量空間取向的光波偏振態(tài)。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)的以上缺陷或改進(jìn)需求，本實(shí)用新型提供了一種圖案化控偏膜片，其目的在于，解決現(xiàn)有控偏膜片存在的上述技術(shù)問題，同時(shí)可根據(jù)所使用的不同偏振膜配置傳輸光波的偏振取向，并可實(shí)現(xiàn)光矢量的從優(yōu)振動取向以連續(xù)或離散方式空變共存的優(yōu)點(diǎn)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，按照本實(shí)用新型的一個(gè)方面，提供了一種圖案化控偏膜片，其包括從上到下依次平行設(shè)置的第一保護(hù)膜、基片、至少一個(gè)偏振膜、以及第二保護(hù)膜，偏振膜是由封閉或不封閉的多個(gè)圖案化金屬/金屬氧化物線簇構(gòu)成。

優(yōu)選地，第一保護(hù)膜和第二保護(hù)膜的材料均是由金屬膜或金屬氧化物膜制成。

優(yōu)選地，基片的厚度是在0.2毫米到2毫米之間，偏振膜的厚度是在50納米到700納米之間。

優(yōu)選地，當(dāng)偏振膜是由封閉的多個(gè)金屬/金屬氧化物線簇構(gòu)成時(shí)，其形狀可以是同心環(huán)形、葵花形、向心渦旋環(huán)形、微塊狀向心渦旋形、或封閉漢字形。

優(yōu)選地，當(dāng)偏振膜是同心環(huán)形時(shí)，各個(gè)環(huán)形金屬/金屬氧化物線簇之間的間隔均在2微米到40微米之間，最外部的金屬/金屬氧化物線簇的線寬是大于或等于50微米，其內(nèi)部的金屬/金屬氧化物線簇的線寬是2微米到40微米之間。

優(yōu)選地，當(dāng)偏振膜是由不封閉的多個(gè)金屬/金屬氧化物線簇構(gòu)成時(shí)，其形狀可以是雪花形、散布式微方形、向心錐線形、或英文字母形。

優(yōu)選地，當(dāng)偏振膜為非同心環(huán)形時(shí)，其金屬/金屬氧化物線簇在偏振膜細(xì)的部分線寬為200納米到30微米，在偏振膜粗的部分線寬為200納米到50微米。

優(yōu)選地，如果偏振膜存在結(jié)構(gòu)鈍化后殘存的尖端部分，在該尖端部位聚集的是正電荷時(shí)，電場向外發(fā)散，當(dāng)尖端部位聚集的是負(fù)電荷時(shí)，電場向內(nèi)聚集。

優(yōu)選地，圖案化控偏膜片是封裝在立方體形狀的金屬殼體內(nèi)，金屬殼體的一側(cè)和其相對的另一側(cè)分別設(shè)置有第一光窗和第二光窗，第一光窗所在的側(cè)面上設(shè)置有標(biāo)識符，以指示偏振膜靠近該第一光窗。

總體而言，通過本實(shí)用新型所構(gòu)思的以上技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠取得下列有益效果：

1、本實(shí)用新型通過設(shè)置多種形狀的圖案化偏振膜結(jié)構(gòu)，將透射光波驅(qū)控在多向甚至任意偏振態(tài)上。

2、本實(shí)用新型可通過改變偏振膜的圖案來配置傳輸光波的從優(yōu)偏振取向。

3、本實(shí)用新型通過構(gòu)建封閉環(huán)形的金屬/金屬氧化物線簇，可實(shí)現(xiàn)傳輸光波的偏振態(tài)的連續(xù)空變排布。